[发明专利]含氘二氟甲氧桥衍生物及其制备方法与应用无效
| 申请号： | 201410024249.6 | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103724168A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 张兴;华瑞茂;李雅敏;王奎 | 申请（专利权）人： | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 |
| 主分类号： | C07C43/225 | 分类号： | C07C43/225;C07D309/06;C07D319/06;C07C41/30;C09K19/20;C09K19/34 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅 |
| 地址： | 050091 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种含氘二氟甲氧桥衍生物及其制备方法与应用。该含氘二氟甲氧桥衍生物，其结构通式如式I所示。该类化合物具有化合物所必需的一般物理性质，对光，热稳定，较宽的向列相，与其他化合物相溶性好，尤其是此化合物具有低旋转粘度γ1和大介电各向异性(△ε)的特性。对于低旋转粘度γ1和高介电各向异性△ε的单体液晶化合物的开发具有重要意义。 |
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| 搜索关键词： | 含氘二氟甲氧桥 衍生物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.式I所示化合物，![]()
所述式I中，A选自单键和如下基团中的至少一种：![]()
C表示碳原子，n表示碳原子个数；n是1-5的整数；D表示氘原子，x表示氘原子个数；H表示氢原子，y表示氢原子个数；x+y等于2n+1。Y1为H或F。
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