[发明专利]检查装置及检查方法有效
申请号: | 201410012280.8 | 申请日: | 2014-01-10 |
公开(公告)号: | CN104423147B | 公开(公告)日: | 2018-12-21 |
发明(设计)人: | 铃木胜;水野央之 | 申请(专利权)人: | 东芝存储器株式会社 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;H01L21/67 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 徐健;陈海红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种检查装置及检查方法。检查装置具备接触位置取得部和检查状态判定部。上述接触位置取得部使用保持对象的检查面上的粒子有无的检查结果和静电吸盘保持机构的凸部分的坐标信息,取得上述凸部分对上述检查面的接触位置。上述检查状态判定部针对在上述检查面的与上述凸部分的接触区域附着的粒子的尺寸,使用第1判断基准值来判定是否在容许范围内,针对在上述检查面的与上述凸部分的非接触区域附着的粒子的尺寸,使用比上述第1判断基准值大的第2判断基准值来判定是否在容许范围内。 | ||
搜索关键词: | 检查 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种检查装置,其特征在于,具备:接触位置取得部,其使用有无存在于保持对象的检查面的粒子的检查结果、和静电吸盘保持机构的凸部分的坐标信息,取得上述凸部分对上述检查面的接触位置;和检查状态判定部,其针对在上述检查面的与上述凸部分接触的接触区域附着的粒子的尺寸,使用第1判断基准值来判定是否在容许范围内,针对在上述检查面的与上述凸部分接触的区域以外的非接触区域附着的粒子的尺寸,使用比上述第1判断基准值大的第2判断基准值来判定是否在容许范围内,上述检查装置检查在由静电吸盘保持机构的上述凸部分保持的保持对象的与上述凸部分接触一侧的面有无附着粒子。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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