[发明专利]用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品的机器和用于使用该机器的方法有效

专利信息
申请号: 201380071001.9 申请日: 2013-01-22
公开(公告)号: CN104936771B 公开(公告)日: 2017-09-22
发明(设计)人: G·富尔南 申请(专利权)人: 埃西勒国际通用光学公司
主分类号: B29D11/00 分类号: B29D11/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 张力更
地址: 法国沙*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品的机器,该机器包括一个真空室(8),该真空室具有被配置成用于接纳所述光学制品的一个内部空间(31);连接到所述真空室(8)上的一个真空泵(20);一个喷雾器(40),该喷雾器被配置成用于进行所述组合物的真空雾化处理以用于将该组合物沉积在所述真空室中的所述光学制品上;以及一个控制单元(2),该控制单元被配置成用于控制所述真空泵;所述控制单元被配置成用于引起该真空泵从所述真空室中抽吸气体以便使该真空室达到所述真空雾化处理所需的一个预定所需压力,并且所述控制单元和所述喷雾器被配置成使为液体的所述预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾并且引导所述微滴朝向所述光学制品的至少一个表面。
搜索关键词: 用于 使用 预定 组合 物涂覆 光学 制品 机器 方法
【主权项】:
用于使用预定涂覆组合物涂覆光学制品(28)的机器,该机器包括:‑一个真空室(8),该真空室具有被配置成用于接纳所述光学制品(28)的一个内部空间(31);‑连接到所述真空室(8)上的一个真空泵(20);‑一个喷雾器(40),该喷雾器被配置成用于进行所述预定涂覆组合物的真空雾化处理以便将该预定涂覆组合物沉积在所述真空室(8)中的所述光学制品(28)上;‑一个等离子体发生器(11),该等离子体发生器被配置成用于进行对所述真空室(8)中的所述光学制品(28)的真空等离子体处理,‑一个控制单元(2),该控制单元被配置成用于控制所述真空泵(20);所述光学制品(28)是眼镜片;所述控制单元(2)被配置成用于控制所述等离子体发生器(11)以用于除去所述光学制品(28)的一个初始最外涂层或用于活化该光学制品的一个表面,并且在真空等离子体处理期间引起所述真空泵(20)从所述真空室(8)中抽吸气体;所述控制单元(2)被进一步配置成用于引起该真空泵(20)从所述真空室(8)中抽吸气体以便使所述真空室(8)达到所述真空雾化处理所需的预定压力;并且所述控制单元(2)和所述喷雾器(40)被进一步配置成用于使为液体的所述预定涂覆组合物雾化成气雾剂微滴的薄雾并且引导所述微滴朝向所述光学制品(28)的至少一个表面(35,36)。
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