[发明专利]导电膜的制造方法、印刷配线基板有效

专利信息
申请号: 201380062992.4 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN104823248A 公开(公告)日: 2015-08-05
发明(设计)人: 宇佐美由久;太田浩史 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00;H01B5/14;H05K3/10
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 杨文娟;臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的目的在于提供一种能高效地自金属氧化物向金属进行还原、能制造对于基材的密接性优良的导电膜的制造方法、及印刷配线基板。本发明的导电膜的制造方法包括:将包含金属氧化物的粒子的分散液涂布于基材上,形成包含粒子的前驱物膜的工序;以及对于前驱物膜,一面相对地扫描连续振荡激光光一面进行照射,在连续振荡激光光的照射区域内使金属氧化物还原而形成含有金属的导电膜的工序;扫描的速度为1.0m/s以上,连续振荡激光光的激光功率为6.0W以上,前驱物膜表面的每一个地点的照射时间为1.0μs以上。
搜索关键词: 导电 制造 方法 印刷 配线基板
【主权项】:
一种导电膜的制造方法,包括:将包含金属氧化物的粒子的分散液涂布于基材上,形成包含所述粒子的前驱物膜的工序;对于所述前驱物膜,一面相对地扫描连续振荡激光光一面进行照射,在所述连续振荡激光光的照射区域内使所述金属氧化物还原而形成含有金属的导电膜的工序;所述扫描的速度为1.0m/s以上,所述连续振荡激光光的激光功率为6.0W以上,所述前驱物膜表面的每一个地点的照射时间为1.0μs以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380062992.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top