[发明专利]导电膜的制造方法、印刷配线基板有效
申请号: | 201380062992.4 | 申请日: | 2013-11-29 |
公开(公告)号: | CN104823248A | 公开(公告)日: | 2015-08-05 |
发明(设计)人: | 宇佐美由久;太田浩史 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14;H05K3/10 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于提供一种能高效地自金属氧化物向金属进行还原、能制造对于基材的密接性优良的导电膜的制造方法、及印刷配线基板。本发明的导电膜的制造方法包括:将包含金属氧化物的粒子的分散液涂布于基材上,形成包含粒子的前驱物膜的工序;以及对于前驱物膜,一面相对地扫描连续振荡激光光一面进行照射,在连续振荡激光光的照射区域内使金属氧化物还原而形成含有金属的导电膜的工序;扫描的速度为1.0m/s以上,连续振荡激光光的激光功率为6.0W以上,前驱物膜表面的每一个地点的照射时间为1.0μs以上。 | ||
搜索关键词: | 导电 制造 方法 印刷 配线基板 | ||
【主权项】:
一种导电膜的制造方法,包括:将包含金属氧化物的粒子的分散液涂布于基材上,形成包含所述粒子的前驱物膜的工序;对于所述前驱物膜,一面相对地扫描连续振荡激光光一面进行照射,在所述连续振荡激光光的照射区域内使所述金属氧化物还原而形成含有金属的导电膜的工序;所述扫描的速度为1.0m/s以上,所述连续振荡激光光的激光功率为6.0W以上,所述前驱物膜表面的每一个地点的照射时间为1.0μs以上。
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