[发明专利]具有防击穿层的半导体器件在审

专利信息
申请号: 201380061263.7 申请日: 2013-09-30
公开(公告)号: CN104813454A 公开(公告)日: 2015-07-29
发明(设计)人: G·西敏;M·舒尔;R·格斯卡 申请(专利权)人: 传感器电子技术股份有限公司
主分类号: H01L21/336 分类号: H01L21/336;H01L29/78
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 刘倜
地址: 美国南*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供了具有防击穿层的半导体器件。防击穿层可以位于器件的高电压表面区域。防击穿层可以包括具有嵌入其中的导电元件的绝缘膜。可以沿着绝缘膜的横向长度布置导电元件。导电元件可以配置为将器件工作期间以其它方式存在于高电压表面区域的高电场尖峰分成多个小得多的尖峰。
搜索关键词: 具有 击穿 半导体器件
【主权项】:
一种横向半导体器件,包括:器件通道;在所述器件通道的第一端上的第一接触;在所述器件通道的第二端上的第二接触,其中所述第二端与所述第一端相对,以及其中所述第一和第二接触位于所述器件通道的第一侧上;以及防击穿层,位于所述器件通道的所述第一侧上,在所述第一接触与所述第二接触之间的间距的至少一部分中,其中所述防击穿层包括:绝缘膜;以及嵌入所述绝缘膜中的多个导电元件,其中所述多个导电元件沿着所述绝缘膜的横向长度布置。
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