[发明专利]包括颜色微透镜的CMOS图像传感器及其制造方法

摘要

本发明涉及一种包括颜色微透镜的CMOS图像传感器及其制造方法，其中通过将由透明材料制成的微透镜替代为由具有与滤色器的特性相似特性的材料制成的微透镜，改进了微透镜的颜色特性。根据本发明的包括颜色微透镜的CMOS图像传感器及其制造方法，改进了颜色特性。由于微透镜和滤色器的形成过程同时执行，用于平坦化以及台阶差异调整的额外过程不是必需，从而整个过程简化。由于材料之间不存在交界面，光的前进过程中，反射、折射等减少，从而可提高光效率。

主权项

一种包括颜色微透镜的CMOS图像传感器，其包括：光电检测层，其形成在半导体基底之上并包括用于接收至少一种颜色的光的至少一个光电二极管；抗反射层，其形成在所述光电检测层之上；滤色器层，其形成在所述抗反射层之上并包括形成在与至少一个光电二极管各自对应位置的至少一个滤色器；外敷层，其形成在所述滤色器层之上并包括形成在与至少一个滤色器各自对应位置的至少一个外敷；以及颜色微透镜层，其形成在所述外敷层之上并包括形成在与至少一个滤色器各自对应位置的至少一个颜色微透镜。