[发明专利]在光学装置上的部件隔离有效
| 申请号： | 201380036800.2 | 申请日： | 2013-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN104685408B | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 钱伟;冯大增;J.方;M.阿斯哈里 | 申请（专利权）人： | 迈络思科技硅光股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/035 | 分类号： | G02F1/035 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 原绍辉;傅永霄 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 该学装置包括在基底上的有源部件。有源部件为光传感器和/或光调制器。有源部件包括有源介质，有源介质包括脊和平板区域。脊从基底向上延伸并且定位于平板区域之间。脊限定在基底上的波导的一部分。一个或多个隔离沟槽各自延伸到有源介质的平板区域并且至少部分地与有源介质的脊间隔开。 | ||
| 搜索关键词： | 源介质 源部件 基底 平板区域 隔离沟槽 光传感器 光调制器 光学装置 向上延伸 板区域 波导 隔离 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种光学装置，包括：在基底上的有源部件，其具有选自包括光传感器功能性和光调制器功能性的组中的至少一个功能性，所述有源部件包括有源介质，所述有源介质包括平板区域和从所述基底向上延伸的脊，所述有源介质的脊定位于所述有源介质的所述平板区域之间，所述有源介质的脊限定位于所述基底上的波导的一部分，所述波导配置成用以引导光信号通过增益介质的脊；以及隔离沟槽，其延伸到所述有源介质的平板区域内并且与所述有源介质的脊间隔开。
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