[发明专利]在光学装置上的部件隔离

说明书

该学装置包括在基底上的有源部件。有源部件为光传感器和/或光调制器。有源部件包括有源介质，有源介质包括脊和平板区域。脊从基底向上延伸并且定位于平板区域之间。脊限定在基底上的波导的一部分。一个或多个隔离沟槽各自延伸到有源介质的平板区域并且至少部分地与有源介质的脊间隔开。

技术领域

本发明涉及光学装置并且更特定而言涉及在光学装置上光学部件的隔离。

背景技术

多种光学装置包括有源部件诸如光传感器或调制器。当电场施加到部件波导上时，这些有源部件通常引导光信号穿过部件波导。部件波导可以部分地由从平板区域（slabregion）向上延伸的脊限定。这些部件的性能可能会受到来自平板区域中存在的其它部件的杂散光信号存在的不利影响。作为补充或替代，当来自装置上的其它部件的热能通过该装置行进到该部件时，这些部件可能会受到不利影响。因此，常常需要热、电和/或光学隔离这些部件与同一装置上的其它部件。

发明内容

光学装置包括了在基底上的有源部件。有源部件为光传感器和/或光调制器。有源部件包括有源介质，有源介质包括脊和平板区域。脊从基底向上延伸并且定位于平板区域之间。脊限定了在基底上的波导的一部分。一个或多个隔离沟槽各自延伸到有源介质的平板区域内并且至少部分地与脊间隔开。

本发明公开了一种形成光学装置的方法，光学装置包括充当光传感器和/或调制器的有源部件。该方法包括：在装置上执行装置波导蚀刻，该装置在基底上具有透光介质/光透射介质。装置波导蚀刻在透光介质中限定装置波导。该方法还包括：在该装置上执行部件波导蚀刻。部件波导蚀刻在该装置上限定部件波导。装置波导和部件波导对准以便成为共同波导的不同部分，其中，装置波导部分与部件波导部分交换光信号。该方法还包括：在该装置上形成隔离沟槽使得每个隔离沟槽延伸到有源介质的平板区域内并且至少部分地与脊间隔开。一个或多个隔离沟槽是通过选自装置波导蚀刻和部件波导蚀刻的一个或多个蚀刻而完全地或部分地形成。

在某些情形下，隔离沟槽中的一个或多个和波导一起限定了将有源部件的至少一部分包围着的周边。在一示例中，隔离沟槽中的一个或多个和波导一起限定了将有源介质的至少一部分包围着的周边。

附图说明

图1A至图1G示出了光学装置，光学装置具有有源部件，有源部件被配置成充当调制器和/或光传感器。图1A为装置的透视图。

图1B示出了包括光调制器的图1A所示的光学装置的部分的顶视图。

图1C为沿着标记为C的线所截取的图1B所示装置的截面图。

图1D为沿着标记为D的线所截取的图1B所示光学装置的截面图。

图1E为沿着标记为E的线所截取的图1B所示光学装置的截面图。

图1F为沿着标记为F的线所截取的图1B所示光学装置的截面图。

图1G为沿着标记为G的线所截取的图1B所示光学装置的截面图。

图2为有源部件的替代实施例的一实施例的截面图并且可以表示沿着标记为G的线所截取的图1B中所示装置的截面。

图3为有源部件的替代实施例的一实施例的截面图并且可以表示沿着标记为G的线所截取的图1B中所示的装置的截面。

图4A至图4P示出了用于制造具有隔离沟槽的有源部件的方法。

图5A至图5L示出了其中将补充蚀刻引入到图4A至图4P的方法内以便形成图1B所示的凹部25的方法。

图6A至图6I示出了用于形成隔离沟槽使得壁限定隔离沟槽侧部的方法。

具体实施方式