[发明专利]用于处理基底的设备和方法

摘要

本发明涉及用于通过使基底(20，30)的表面(32)承受第一前体和第二前体的相继表面反应来处理基底的表面(32)的设备和方法。所述设备包括：喷嘴头(6，7)，所述喷嘴头具有两个或者更多个前体喷嘴；和运动机构(8，10)，所述运动机构用于使喷嘴头(6，7)以非线性振荡运动的方式沿第一运动方向和第二运动方向在第一极限位置(B)和第二极限位置(C)之间运动经过中央位置(A)。所述运动机构包括：第一驱动装置(21，22)，其用于使喷嘴头(6，7)沿第一运动方向加速以及使喷嘴头沿第二运动方向减速；和第二驱动装置(23，24)，其用于使喷嘴头(6，7)沿第二运动方向加速以及使喷嘴头(6，7)沿第一运动方向减速。

主权项

一种用于通过使基底(20，30)的表面(32)承受至少第一前体和第二前体的相继表面反应来处理所述基底(20，30)的表面(32)的设备，所述设备包括：至少一个喷嘴头(6，7)，所述喷嘴头具有两个或者更多个前体喷嘴，用于使所述基底(20，30)的表面(32)承受至少第一前体和第二前体；和运动机构(8，10)，所述运动机构用于使所述喷嘴头(6，7)以在第一极限位置(B)和第二极限位置(C)之间经过中央位置(A)的非线性振荡运动的方式运动，其特征在于，所述运动机构(8，10)包括连接至所述喷嘴头(6，7)的第一驱动装置(21，22)和第二驱动装置，以用于互相配合地控制所述第一极限位置和所述第二极限位置(B，C)之间的非线性振荡运动。