[发明专利]用以选择性照射圆偏光的系统、圆偏光反射构件及其应用有效
| 申请号： | 201380027728.7 | 申请日： | 2013-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN104334009B | 公开（公告）日： | 2018-03-23 |
| 发明（设计）人： | 市桥光芳;宇佐美由久 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | A01G7/04 | 分类号： | A01G7/04;F21V9/14;F21Y115/10 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 陶敏,臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用以选择性照射圆偏光的系统、圆偏光反射构件及其应用，该系统用以向对象物选择性照射特定的圆偏光，该系统包括控制光的偏光状态而产生圆偏光的偏光状态控制构件、及圆偏光反射构件，上述圆偏光反射构件是配置于自上述偏光状态控制构件出射的圆偏光可入射的位置，上述圆偏光反射构件产生反射光，该反射光选择性包含旋向与所入射的来自上述偏光状态控制构件的圆偏光相同的圆偏光，上述圆偏光反射构件是以可将上述反射光的至少一部分照射于上述对象物的方式配置。 | ||
| 搜索关键词： | 用以 选择性 照射 偏光 系统 | ||
【主权项】：
一种用以选择性照射圆偏光的系统，其用以向植物选择性照射特定的圆偏光，并且包括：控制光的偏光状态而产生圆偏光的偏光状态控制构件、以及圆偏光反射构件，所述圆偏光反射构件是配置于自所述偏光状态控制构件出射的圆偏光入射的位置，所述圆偏光反射构件产生反射光，所述反射光是旋向与所入射的来自所述偏光状态控制构件的圆偏光相同的圆偏光，所述圆偏光反射构件是以将所述反射光的至少一部分照射至所述植物的方式配置。
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