[发明专利]用以选择性照射圆偏光的系统、圆偏光反射构件及其应用有效
申请号: | 201380027728.7 | 申请日: | 2013-05-27 |
公开(公告)号: | CN104334009B | 公开(公告)日: | 2018-03-23 |
发明(设计)人: | 市桥光芳;宇佐美由久 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | A01G7/04 | 分类号: | A01G7/04;F21V9/14;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 陶敏,臧建明 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用以 选择性 照射 偏光 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种用以向对象物选择性照射特定的圆偏光的系统。
背景技术
选择性照射特定的圆偏光的环境可期待对植物的成长或光化学反应赋予特定的效果。例如在专利文献1中已揭示:使用具备偏光照射机构的生物行为控制装置来照射仅右圆偏光,由此促进阿拉伯芥(Arabidopsis thaliana)的生长发育。
然而,在本发明人等人的实验中可见以下的植物栽培例:即便对植物照射特定的圆偏光,也未以良好的再现性观测到由圆偏光所致的生长发育的差异。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2008-228688号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明的课题在于提供一种用以向对象物选择性照射特定的圆偏光的系统。更详细而言,本发明的课题在于提供一种能量效率高、且照射于对象物的光的偏光度也高的系统来作为用以向对象物选择性照射特定的圆偏光的系统。
解决问题的技术手段
关于无法充分获得圆偏光的效果的原因,本发明人等人着眼于以下情况,即,除了光的散射以外可能因反射导致圆偏光的旋向(sense)反转或偏光消除,而研究出了一种系统,该系统可将未直接自光源照射于对象物的圆偏光以相同旋向的圆偏光的形式加以再利用,从而完成了本发明。即,本发明提供以下的(1)~(13)。
(1)一种用以向对象物选择性照射特定的圆偏光的系统,并且
上述系统包括控制光的偏光状态并产生圆偏光的偏光状态控制构件、及圆偏光反射构件,
上述圆偏光反射构件是配置于自上述偏光状态控制构件出射的圆偏光可入射的位置,
上述圆偏光反射构件产生反射光,上述反射光选择性包含旋向与所入射的来自上述偏光状态控制构件的圆偏光相同的圆偏光,
上述圆偏光反射构件是以可将上述反射光的至少一部分照射于上述对象物的方式配置。
(2)如第(1)项所记载的系统,其是以构造物的形式使用,并且
上述构造物包括含有上述偏光状态控制构件及上述圆偏光反射构件的空间,上述空间是由在至少一部分上具有上述圆偏光反射构件的面所形成,在形成上述空间的面的10%以上的面积中具有上述圆偏光反射构件。
(3)如(2)所记载的系统,其中在形成上述空间的面的50%以上的面积中具有上述圆偏光反射构件。
(4)如(1)至(3)中任一项所记载的系统,其中将上述偏光状态控制构件配置于透过其而产生的圆偏光可入射至上述圆偏光反射构件中的位置。
(5)如(4)所记载的系统,其中上述偏光状态控制构件包含直线偏光板与λ/4波长板。
(6)如(1)至(4)中任一项所记载的系统,其中上述偏光状态控制构件包含具有螺旋状的分子排列结构的层。
(7)如(1)至(6)中任一项所记载的系统,其中上述圆偏光反射构件包含具有螺旋状的分子排列结构的层。
(8)如(1)至(7)中任一项所记载的系统,其中上述对象物为植物。
(9)如(1)至(8)中任一项所记载的系统,其具有光源,上述偏光状态控制构件控制由光源所产生的光的偏光状态并产生圆偏光。
(10)如(1)至(8)中任一项所记载的系统,其是以植物工场的形式使用,并且
上述植物工场包括由壁面、天花板及地板所形成的空间,且在上述空间内含有上述偏光状态控制构件及上述圆偏光反射构件,壁面、天花板及地板的总面积的10%以上为上述圆偏光反射构件。
(11)如(9)所记载的系统,其是以植物工场的形式使用,并且
上述植物工场含有2段以上的架子(shelf),在上述架子的至少一段中,在底面与上段的底面之间的空间中含有上述光源、上述偏光状态控制构件及上述圆偏光反射构件,选自上述底面及上述上段的底面中的任一个以上的上述空间侧的表面的总面积的10%以上为上述圆偏光反射构件。
(12)一种圆偏光反射构件,其用于如(1)至(11)中任一项所记载的系统,且包含具有螺旋状的分子排列结构的层。
(13)一种植物的栽培方法,其使用如(1)至(11)中任一项所记载的系统。
发明的效果
根据本发明,提供一种能量效率高、且照射于对象物的光的偏光度也高的系统来作为用以向对象物选择性照射特定的圆偏光的系统。
附图说明
图1为表示照明装置的一例的概略图。
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