[发明专利]用以选择性照射圆偏光的系统、圆偏光反射构件及其应用

权利要求书

1.一种用以选择性照射圆偏光的系统，其用以向植物选择性照射特定的圆偏光，并且包括：

控制光的偏光状态而产生圆偏光的偏光状态控制构件、以及圆偏光反射构件，

所述圆偏光反射构件是配置于自所述偏光状态控制构件出射的圆偏光入射的位置，

所述圆偏光反射构件产生反射光，所述反射光是旋向与所入射的来自所述偏光状态控制构件的圆偏光相同的圆偏光，

所述圆偏光反射构件是以将所述反射光的至少一部分照射至所述植物的方式配置。

2.根据权利要求1所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其用作构造物，所述构造物包括含有所述偏光状态控制构件及所述圆偏光反射构件的空间，所述空间是由在至少一部分上具有所述圆偏光反射构件的面所形成，在形成所述空间的面的10％以上的面积中具有所述圆偏光反射构件。

3.根据权利要求2所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其中，在形成所述空间的面的50％以上的面积中具有所述圆偏光反射构件。

4.根据权利要求2所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其中，将所述偏光状态控制构件配置于透过其而产生的圆偏光入射至所述圆偏光反射构件中的位置。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其中，所述偏光状态控制构件包含直线偏光板与λ/4波长板。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其中所述偏光状态控制构件包含具有螺旋状的分子排列结构的层。

7.根据权利要求6所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其中所述圆偏光反射构件包含具有螺旋状的分子排列结构的层。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其具有光源，且所述偏光状态控制构件控制由光源所产生的光的偏光状态而产生圆偏光。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其用作植物工场，其中，

所述植物工场包括由壁面、天花板、地板所形成的空间，且在所述空间内含有所述偏光状态控制构件及所述圆偏光反射构件，所述壁面、天花板、地板的总面积的10％以上为所述圆偏光反射构件。

10.根据权利要求8所述的用以选择性照射圆偏光的系统，其用作植物工场，其中，

所述植物工场含有2段以上的架子，在所述架子的至少一段中，在底面与上段的底面之间的空间中含有所述光源、所述偏光状态控制构件及所述圆偏光反射构件，选自所述底面及所述上段的底面中的任一个以上的所述空间侧的表面的总面积的10％以上为所述圆偏光反射构件。

11.一种圆偏光反射构件，其用于根据权利要求1至10中任一项所述的用以选择性照射圆偏光的系统，并且包含具有螺旋状的分子排列结构的层。

12.一种植物的栽培方法，其使用根据权利要求1至10中任一项所述的用以选择性照射圆偏光的系统。