[发明专利]带有透明电极的基板及其制造方法以及触摸面板有效

专利信息
申请号: 201380025510.8 申请日: 2013-01-29
公开(公告)号: CN104303240B 公开(公告)日: 2017-03-01
发明(设计)人: 上田拓明;近藤晃三;檀野和久 申请(专利权)人: 株式会社钟化
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;B32B9/00;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/34;H01B13/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 赵曦,金世煜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的目的在于提供一种透明电极层被图案化时,图案也不易被视觉辨识的带有透明电极的基板及其制造方法。本发明的带有透明电极的基板在透明膜的至少一面依次具有第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层以及被图案化的透明电极层。第一电介质层是以SiOx为主要成分的硅氧化物层,第二电介质层是以金属的氧化物为主要成分的金属氧化物层,第三电介质层是以SiOy为主要成分的硅氧化物层。透明电极层是以铟·锡复合氧化物为主要成分的导电性金属氧化物层。第一电介质层的折射率n1、上述第二电介质层的折射率n2以及上述第三电介质层的折射率n3满足n3<n1<n2的关系。各电介质层及透明电极层优选具有规定范围内的膜厚及折射率。
搜索关键词: 带有 透明 电极 及其 制造 方法 以及 触摸 面板
【主权项】:
一种带有透明电极的基板,在透明膜的至少一面,依次具有第一电介质层、第二电介质层、第三电介质层、以及被图案化成电极层形成部和电极层非形成部的透明电极层;所述第一电介质层是以SiOx为主要成分且膜厚为1nm~25nm的硅氧化物层,其中x≥1.5;所述第二电介质层是以选自Nb、Ta、Ti、Zr、Zn、及Hf中的1种以上的金属的氧化物为主要成分且膜厚为5nm以上且小于10nm的金属氧化物层;所述第三电介质层是以SiOy为主要成分且膜厚为35nm~80nm的硅氧化物层,其中y>x;所述透明电极层是以铟·锡复合氧化物为主要成分且膜厚为20nm~35nm的导电性金属氧化物层;所述透明电极层中的铟·锡复合氧化物的平均结晶粒径为110nm~700nm;所述第一电介质层的折射率n1、所述第二电介质层的折射率n2、以及所述第三电介质层的折射率n3满足n3<n1<n2的关系;所述透明电极层的电阻率为5.0×10‑4Ω·cm以下;带有透明电极层的基板的电极层形成部中的透射率为87%以上。
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