[发明专利]雷达装置以及雷达装置的入射波处理方法有效

专利信息
申请号: 201380025468.X 申请日: 2013-05-16
公开(公告)号: CN104303072A 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 佐藤公一 申请(专利权)人: 株式会社电装
主分类号: G01S7/02 分类号: G01S7/02;G01S7/03;G01S7/40;G01S13/34
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 舒艳君;李洋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及雷达装置以及雷达装置的入射波处理方法。在雷达装置中,从全部频率对中提取一个频率对,导出针对该提取对的固有值比。根据固有值比中在基准阈值以上的固有值比的个数推断入射波的个数,全部频率对中,将被推断相对于一个频率对而存在多个入射波的频率对的比例(以下,称为多个检测比例)作为评价值来计算。在每次发送接收雷达时反复上述步骤。其结果,在规定循环次数期间检测到多个检测比例到达规定比例以上的状态的情况下,判断为噪声因素物质附着于覆盖部。
搜索关键词: 雷达 装置 以及 入射 处理 方法
【主权项】:
一种雷达装置,其中,具备:发送接收单元,其以预先规定的周期反复执行从发送天线发送雷达波且利用由多个天线元件构成的接收天线接收从所述发送天线发送的雷达波被反射而产生的入射波的发送接收循环;覆盖部,其是使所述雷达波透过的部件,该覆盖部至少覆盖所述接收天线的开口面;目标物体检测单元,其在每次通过所述发送接收单元执行发送接收循环时,根据发送接收了的所述雷达波的结果,分别检测反射了所述雷达波的目标物体;方位推断单元,其推断入射方位,该入射方位是与由所述目标物体检测单元检测到的各目标物体对应的入射波入射的方位;状态检测单元,其检测附着状态,该附着状态是在所述方位推断单元中的入射方位的推断的结果中,针对一个目标物体存在多个入射方位的目标物体在所述目标物体检测单元检测到的全部目标物体中占有的比例亦即多个检测比例在规定的规定比例以上;以及判断单元,若利用所述状态检测单元在规定次数的发送接收循环亦即规定循环次数期间检测到处于附着状态,则该判断单元判断为使所述雷达波透过并成为噪声的因素的物质附着于所述覆盖部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社电装,未经株式会社电装许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380025468.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top