[发明专利]抛光垫及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201380025329.7 申请日: 2013-02-12
公开(公告)号: CN104507641B 公开(公告)日: 2018-01-05
发明(设计)人: 安峰秀;张英俊;郑镇秀;李相穆;宋基天;金昇槿;徐章源;秋政璇;姜学受;孔庚杓 申请(专利权)人: KPX化工有限公司;三星电子株式会社
主分类号: B24D11/00 分类号: B24D11/00;B24D3/16
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 庞东成,解延雷
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种抛光垫的制造方法,所述方法通过混合抛光层形成用材料并经化学反应使该材料固化,所述方法包括通过采用物理法研磨有机材料以形成有机微粒的步骤;将上一步骤中形成的有机微粒与抛光层形成用材料混合的步骤;将能够控制孔尺寸的惰性气体、胶囊型发泡剂或化学发泡剂与上一步骤中获得的混合物混合以形成气孔的步骤;对上一步骤中获得的混合物进行凝胶化和固化以制得抛光层的步骤;和加工该抛光层以通过打开气孔而使孔分布在表面上的步骤。
搜索关键词: 抛光 及其 制造 方法
【主权项】:
一种用于CMP工艺的抛光垫的制造方法,通过所述方法使抛光层形成用材料混合并通过化学反应固化,从而制造所述抛光垫,所述方法包括:(a)使抛光层形成用材料中包含有机微粒形成用单体,并通过在进行搅拌后使所述单体聚合,来形成所述有机微粒并使其分散;(b)将选自由能够控制孔尺寸的惰性气体、胶囊型发泡剂和化学发泡剂组成的组中的至少一种与(a)中的所述混合物混合,以形成气孔;(c)对(b)中生成的所述混合物进行凝胶化和硬化,以形成抛光层;和(d)加工所述抛光层,以使通过打开气孔而限定出的开孔分布在所述抛光层的表面上。
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