[发明专利]抛光垫及其制造方法

权利要求书

1.一种用于CMP工艺的抛光垫的制造方法，通过所述方法使抛光层形成用材料混合并通过化学反应固化，从而制造所述抛光垫，所述方法包括：

(a)使抛光层形成用材料中包含有机微粒形成用单体，并通过在进行搅拌后使所述单体聚合，来形成所述有机微粒并使其分散；

(b)将选自由能够控制孔尺寸的惰性气体、胶囊型发泡剂和化学发泡剂组成的组中的至少一种与(a)中的所述混合物混合，以形成气孔；

(c)对(b)中生成的所述混合物进行凝胶化和硬化，以形成抛光层；和

(d)加工所述抛光层，以使通过打开气孔而限定出的开孔分布在所述抛光层的表面上。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述有机微粒包含选自由聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、聚酰胺树脂、丙烯酸类树脂、聚氨酯树脂、聚碳酸酯树脂、酚醛树脂、氨基树脂、环氧树脂、脲醛树脂、聚酯树脂、橡胶丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)和苯乙烯-丙烯腈共聚物(SAN)组成的组中的至少一种。

3.如权利要求1所述的方法，其中，所述惰性气体选自由元素周期表中的0族元素和不与所述抛光层形成用材料反应的气体组成的组。

4.如权利要求1所述的方法，所述方法还包括，在所述抛光层形成用材料中包含液体材料，所述液体材料构成所述抛光层中的微液成分。