[发明专利]用于二维基板的加工站与用于加工二维基板的方法有效
| 申请号： | 201380018401.3 | 申请日： | 2013-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN104321858B | 公开（公告）日： | 2016-11-23 |
| 发明（设计）人： | M.赖兴巴赫;M.鲍 | 申请（专利权）人： | JRT光电有限责任两合公司 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 董均华;谭祐祥 |
| 地址： | 德国马*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于二维基板的加工站，其包括至少两个加工单元与彼此平行布置的用于基板的至少两个传送线，其中所述加工单元两者均定位于两个传送线之间并且其中，设有用于使基板自传送线运动至加工单元及自加工单元返回传送线的器件。用于使基板运动的器件具有各包括至少一个基板支撑件的四个线性传送单元，其中第一线性传送单元自第二传送线引向第一加工单元，第二线性传送单元自第一传送线引向第一加工单元，第三线性传送单元自第一传送线引向第二加工单元，第四线性传送单元自第二传送线引向第二加工单元。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 二维 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种用于二维基板的加工站，包括：至少两个加工单元(12, 14)和彼此平行布置的用于基板的至少两个传送线(16, 18)、以及用于使基板自传送线(16, 18)运动至加工单元(12, 14)及自加工单元返回传送线的器件，其中，所述加工单元(12, 14)两者均设置在所述两个传送线(16, 18)之间，其特征在于，用于使基板运动的器件具有各包括至少一个基板支撑件(32, 34, 36, 38)的四个线性传送单元(24, 26, 28, 30)，其中，第一线性传送单元(24)布置于第二传送线(18)的转运点(22)与第一加工单元(12)之间，第二线性传送单元(26)布置于第一传送线(16)的转运点(20)与第一加工单元(12)之间，第三线性传送单元(26)布置于第一传送线(16)的转运点(20)与该第二加工单元(14)之间，第四线性传送单元(30)布置于第二传送线(18)的转运点(22)与该第二加工单元(14)之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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