[发明专利]在等离子体处理系统中供给处理气体的方法和装置

摘要

用于在采用单线滴注方案的等离子体处理系统中供给气体的方法和装置，其中调节器在多个质量流控制器之间被共享。在一个或多个实施方式中，蓄积器被提供并与共享歧管气体连通地耦合以降低压力尖峰和下陷。在一个或多个实施方式中，可更换或不可更换地与蓄积器分离的过滤器与蓄积器整合。

主权项

一种用于将处理气体提供至多个等离子体腔的等离子体处理系统，所述等离子体处理系统包括：配置成接收所述处理气体的调节器；与所述调节器连接的蓄积器，其中所述调节器被配置成调节对所述蓄积器的所述处理气体的供给；与所述蓄积器连接的共享歧管，其中所述蓄积器被配置成吸收所述共享歧管内的至少一部分压力尖峰和下陷；以及与所述共享歧管连接的多个质量流控制器，其中所述蓄积器被连接在所述调节器和所述多个质量流控制器之间，并且其中所述多个质量流控制器控制所述处理气体的各部分流出所述共享歧管的支管以进入所述多个等离子体腔。