[发明专利]曝光描绘装置、记录了程序的记录介质以及曝光描绘方法有效
| 申请号： | 201380016165.1 | 申请日： | 2013-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN104204953A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 尾崎幸久 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 李亚;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光描绘装置中的曝光描绘方法，该曝光描绘装置具有曝光单元，该曝光单元通过对具有第1面和与该第1面相对的第2面的被曝光基板进行曝光而描绘电路图案，曝光描绘方法进行如下步骤：标记形成步骤，在被曝光基板的第2面的预先确定的位置上形成作为曝光位置的基准的第1标记，并且通过使相对于第1标记的相对位置在每个被曝光基板上不同，从而形成表示通过该相对位置识别被曝光基板的识别信息的第2标记；第1控制步骤，控制曝光单元在被曝光基板的第1面上描绘电路图案；以及存储步骤，将与第1面的曝光有关的信息与通过相对位置表示的识别信息对应而存储在存储单元中。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 描绘 装置 记录 程序 介质 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光描绘装置，具有：曝光单元，通过对具有第1面和与该第1面相对的第2面的被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；标记形成单元，在所述被曝光基板的所述第2面的预先确定的位置上形成作为曝光位置的基准的第1标记，并且通过使相对于所述第1标记的相对位置在每个所述被曝光基板上不同，从而形成表示通过该相对位置识别所述被曝光基板的识别信息的第2标记；控制单元，控制所述曝光单元在所述被曝光基板上描绘电路图案；以及存储单元，与由所述相对位置表示的识别信息对应而存储与所述曝光有关的信息。
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