[发明专利]曝光描绘装置、记录了程序的记录介质以及曝光描绘方法

权利要求书

1.一种曝光描绘装置，具有：

曝光单元，通过对具有第1面和与该第1面相对的第2面的被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；

标记形成单元，在所述被曝光基板的所述第2面的预先确定的位置上形成作为曝光位置的基准的第1标记，并且通过使相对于所述第1标记的相对位置在每个所述被曝光基板上不同，从而形成表示通过该相对位置识别所述被曝光基板的识别信息的第2标记；

控制单元，控制所述曝光单元在所述被曝光基板上描绘电路图案；以及

存储单元，与由所述相对位置表示的识别信息对应而存储与所述曝光有关的信息。

2.根据权利要求1所述的曝光描绘装置，其中，

具有：检测单元，对由所述标记形成单元形成的所述第1标记和所述第2标记的位置进行检测；以及

导出单元，根据由所述检测单元检测到的所述位置导出所述第2标记相对于所述第1标记的相对位置，

所述控制单元控制所述曝光单元在所述第1面上描绘电路图案，并且从所述存储单元获取由所述导出单元导出的相对位置表示的识别信息所对应的与所述第1面的曝光有关的信息，在该信息表示所述第1面的曝光正常地进行的情况下，所述控制单元控制所述曝光单元根据所述第2面的曝光位置在所述第2面上描绘电路图案，所述第2面的曝光位置是根据由所述检测单元检测到的所述第1标记的位置而确定的。

3.根据权利要求1所述的曝光描绘装置，其中，

具有：检测单元，对由所述标记形成单元形成的所述第1标记和所述第2标记的位置进行检测；以及

导出单元，根据由所述检测单元检测到的所述位置导出所述第2标记相对于所述第1标记的相对位置，

所述控制单元控制所述曝光单元在所述第1面上描绘电路图案，并且从所述存储单元获取由所述导出单元导出的相对位置表示的识别信息所对应的与所述第1面的曝光有关的信息，在该信息表示所述第1面的曝光没有正常地进行的情况下，所述控制单元控制所述曝光单元在所述第2面上不描绘电路图案。

4.根据权利要求1至3中的任意一项所述的曝光描绘装置，其中，

与所述曝光有关的信息至少包含以下信息中的至少一个信息：表示所述第1面的曝光是否正常地进行的信息、与所述第1面的曝光有关的所述倍率的信息、表示描绘在所述第1面上的电路图案的信息、以及表示所述被曝光基板的曝光顺序的信息。

5.根据权利要求1至3中的任意一项所述的曝光描绘装置，其中，

所述第1标记和所述第2标记具有相同的形状。

6.根据权利要求1至3中的任意一项所述的曝光描绘装置，其中，

所述检测单元根据对所述第1标记和所述第2标记进行摄影而得到的图像，对所述第1标记和所述第2标记的位置进行检测。

7.根据权利要求1至3中的任意一项所述的曝光描绘装置，其中，

所述标记形成单元通过对所述被曝光基板照射紫外线光束而形成所述第1标记和所述第2标记。

8.根据权利要求1至3中的任意一项所述的曝光描绘装置，其中，

所述标记形成单元在不同的位置上形成多个所述第2标记。

9.一种曝光描绘装置，具有：

曝光单元，通过对被曝光基板进行曝光而描绘电路图案，该被曝光基板在第1面和与该第1面相对的第2面中的至少一个面上在预先确定的位置上形成有作为曝光位置的基准的第1标记，通过使相对于所述第1标记的相对位置在每个所述被曝光基板上不同，从而形成有表示通过该相对位置识别所述被曝光基板的识别信息的第2标记；

检测单元，对由所述标记形成单元形成的所述第1标记和第2标记的位置进行检测；

导出单元，根据由所述检测单元检测到的所述位置导出所述第2标记相对于所述第1标记的相对位置；以及

控制单元，控制所述曝光单元根据所述第1面的曝光位置在所述第1面上描绘电路图案，所述第1面的曝光位置是根据由所述检测单元检测到的所述第1标记的位置而确定的，将与所述第1面的曝光有关的信息与由所述导出单元导出的相对位置所表示的识别信息对应而存储到存储单元，并且从所述存储单元获取由所述导出单元导出的相对位置表示的识别信息所对应的与所述第1面的曝光有关的信息，根据该信息确定曝光条件，控制所述曝光单元根据所述第2面的曝光位置在所述第2面上描绘电路图案，所述第2面的曝光位置是根据由所述检测单元检测到的所述第1标记的位置而确定的。