[发明专利]曝光描绘装置、记录了程序的记录介质以及曝光描绘方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光描绘装置、记录了程序的记录介质以及曝光描绘方法。本发明特别涉及对基板描绘图像的曝光描绘装置、记录了通过该曝光描绘装置执行的程序的记录介质以及对基板描绘图像的曝光描绘方法。

背景技术

在使用曝光描绘装置对被曝光基板进行曝光处理时，为了对所描绘的电路图案的描绘位置进行调整，在被曝光基板上形成校准用标记。在曝光描绘装置中，通过由相机等摄影部对被曝光基板进行摄影而对该校准用标记的位置进行检测，根据检测到的位置进行描绘区域的位置对准。

作为与此相关的技术，在日本特开2011-227363号公报中公开有能够缩短在校准用标记的位置检测中所需的时间的曝光描绘装置。在通过摄影部得到的图像的范围内不存在校准用标记时，该曝光描绘装置根据存在于图像的范围内的探索用标记和预先存储的校准用标记与探索用标记之间的位置关系算出校准用标记的坐标，根据所算出的坐标使摄影部移动。根据该结构，不使校准标记的位置的检测精度降低而能够缩短在校准标记的位置检测中所需的时间。

另外，公开有如下方法：在使用曝光描绘装置对被曝光基板进行曝光处理时，形成用于识别各个被曝光基板的识别用标记。例如，在日本特开平4-82650号公报中公开有如下方法：沿着被曝光基板的一端缘设置按照预先确定的约定排列的多个识别用标记。在该方法中，通过在被曝光基板的一端缘上设置槽而形成识别用标记。

发明内容

发明所要解决的课题

在对被曝光基板描绘电路图案时，为了防止由于在被曝光基板上描绘错误的电路图案或以错误的曝光条件描绘电路图案而产生不良品的情况，优选在曝光处理时能够识别各个被曝光基板。

在公开于上述日本特开平4-82650号公报中的曝光描绘装置中，虽然能够识别每个被曝光基板，但是与为了进行曝光处理而所需的结构独立地在需要用于形成识别用标记的专用的装置。曝光描绘装置所具备的结构，优选利用例如在上述日本特开2011-227363号公报中公开的校准用标记等而能够识别每个被曝光基板。

本发明提供在进行曝光处理时能够简单地识别每个被曝光基板的曝光描绘装置、记录了程序的记录介质以及曝光描绘方法。

用于解决课题的技术方案

本发明的第1方式提供曝光描绘装置，具有：曝光单元，通过对具有第1面和与该第1面相对的第2面的被曝光基板进行曝光而描绘电路图案；标记形成单元，在被曝光基板的预先确定的位置上形成作为曝光位置的基准的第1标记，并且通过使相对于第1标记的相对位置在每个被曝光基板上不同，从而形成表示通过该相对位置识别被曝光基板的识别信息的第2标记；控制单元，控制曝光单元在被曝光基板上描绘电路图案；以及存储单元，与由相对位置表示的识别信息对应而存储与曝光有关的信息。

根据本发明的第1方式的曝光描绘装置，通过曝光单元，对具有第1面和与该第1面相对的第2面的被曝光基板进行曝光，从而描绘电路图案。

此处，在本发明的第1方式中，通过标记形成单元，在被曝光基板的第2面的预先确定的位置上形成作为曝光位置的基准的第1标记，并且通过使相对于第1标记的相对位置在每个被曝光基板上不同，从而形成表示通过该相对位置识别被曝光基板的识别信息的第2标记，通过控制单元，控制曝光单元在被曝光基板上描绘电路图案，通过存储单元，与由相对位置表示的识别信息对应而存储与曝光有关的信息。

如上所述，根据本发明的第1方式的曝光描绘装置，对在第1面和第2面上描绘有电路图案的被曝光基板形成第1标记和第2标记，作为被曝光基板的识别信息使用第2标记相对于第1标记的相对位置，从而在进行曝光处理时能够简单地识别每个被曝光基板。

另外，本发明的第2方式也可以是，在上述第1方式中，具有：检测单元，对由标记形成单元形成的第1标记和第2标记的位置进行检测；以及导出单元，根据由检测单元检测到的位置导出第2标记相对于第1标记的相对位置，控制单元控制曝光单元在第1面上描绘电路图案，并且从存储单元获取由导出单元导出的相对位置表示的识别信息所对应的与第1面的曝光有关的信息，在该信息表示第1面的曝光正常地进行时，根据第2面的曝光位置在第2面上描绘电路图案，第2面的曝光位置是根据由检测单元检测到的第1标记的位置而确定。由此，在本发明的第2方式中，在对第2面进行曝光时，能够根据与第1面的曝光有关的信息确定曝光条件，其结果，能够防止以错误的曝光条件曝光而产生不良品的情况。