[发明专利]磁阻效应元件及磁存储器有效
申请号: | 201380015011.0 | 申请日: | 2013-03-25 |
公开(公告)号: | CN104170074B | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 佐藤英夫;深见俊辅;山内路彦;池田正二;松仓文礼;大野英男 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人东北大学 |
主分类号: | H01L21/8246 | 分类号: | H01L21/8246;H01F10/16;H01F10/32;H01L27/105;H01L29/82;H01L43/08;H01L43/10 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司11002 | 代理人: | 谢顺星,张晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供在膜面内进行垂直磁化记录的记录层的热稳定性高的磁阻效应元件及使用了该磁阻效应元件的磁存储器。所述磁阻效应元件具备包含磁化方向不变的第一强磁性层(106)、磁化方向可变的第二强磁性层(109)、设置在第一强磁性层(106)和第二强磁性层(109)之间的第一非磁性层(110)、与第一强磁性层及第二强磁性层连接的电流供给端子(201、202)、设置在第二强磁性层(109)的与第一非磁性层(110)相反侧的面上的非磁耦合层(203)、设置在非磁耦合层(203)的与第二强磁性层(109)的相反侧的面上的磁化方向可变的第三强磁性层(204)、设置在第三强磁性层(204)的与所述非磁耦合层(203)相反侧面上的第二非磁性层(205);所述第二强磁性层(109)与所述第三强磁性层(204)磁化方向相同,通过电流进行自旋注入磁化反转。 | ||
搜索关键词: | 磁阻 效应 元件 磁存储器 | ||
【主权项】:
一种磁阻效应元件,其特征在于,其具备:包含在膜面垂直方向上磁化方向不变的第一强磁性层的固定层、在膜面垂直方向上磁化方向可变的第二强磁性层、与所述第二强磁性层邻接设置的第一非磁性层、所述第二强磁性层与所述第一非磁性层相对的另一侧的面邻接设置的非磁耦合层、所述非磁耦合层与所述第二强磁性层相对的另一侧的面邻接设置的在膜面垂直方向上磁化方向可变的第三强磁性层、所述第三强磁性层与所述非磁耦合层相对的另一侧的面邻接设置的第二非磁性层;所述第二强磁性层及所述第三强磁性层分别含有Fe、Co、Ni中的至少一种,进一步地,为了在薄膜沉积后不久就形成无定型状态,分别含有B、C、N、O、F、Si、Al、P、S中的至少一种;所述第二强磁性层与所述第三强磁性层的磁化方向相同;所述第二强磁性层与所述第三强磁性层的总膜厚为2nm以上;所述非磁耦合层的膜厚为0.3nm以上不足1.0nm。
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H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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