[发明专利]涂层从金属层的选择性去除及其在太阳能电池上的应用有效
| 申请号: | 201380008602.5 | 申请日: | 2013-01-23 |
| 公开(公告)号: | CN104205360B | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
| 发明(设计)人: | A·B·特纳;Q·Y·王;O·舒尔茨-韦特曼 | 申请(专利权)人: | 泰特拉桑有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0224;H01L31/0216 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 蔡胜利 |
| 地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 一种在衬底上形成金属膜图案的方法和生成的结构,包括在衬底上形成金属膜图案;在衬底表面和金属膜图案上淀积涂层;采用激光辐射去除金属膜图案上的涂层。衬底和涂层并不与激光辐射显著地相互作用,并且激光辐射与金属膜图案和涂层相互作用,导致金属膜图案上的涂层去除。本发明提供一种形成用于太阳能电池的被介电涂层包围的金属图案的技术,在该太阳能电池中,介电涂层可用作前表面上的抗反射涂层、后表面上的内反射器,并且可进一步用作后续的在任一意表面上的金属图案电镀的介电阻挡层。 | ||
| 搜索关键词: | 涂层 金属 选择性 去除 及其 太阳能电池 应用 | ||
【主权项】:
一种在衬底上形成金属膜图案的方法,包括:在衬底上形成金属膜图案;在衬底表面和金属膜图案上淀积涂层;采用激光辐射曝光区而去除金属膜图案上的涂层,曝光区包括金属膜图案上的涂层和衬底上的从金属膜图案偏离开的涂层,所述去除包括对所述激光辐射采用激光辐射参数以使得激光辐射与曝光区中的金属膜图案的金属相互作用,而不与曝光区中的从金属膜图案偏离开的涂层或衬底实质地相互作用,以引起金属膜图案中的金属部分地烧蚀并且去除或破坏部分地烧蚀的金属膜图案上的涂层,同时留下曝光区中的从金属膜图案偏离开的衬底上的涂层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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