[发明专利]积层体及其制造方法、以及底层形成用组合物

摘要

本发明的目的是提供一种金属层的密接性优异、金属层表面的净化性也优异的积层体的制造方法。本发明的积层体的制造方法包括：底层形成步骤，形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子；催化剂提供步骤，使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液与底层接触，而在底层上提供镀敷催化剂或其前驱物；以及镀敷步骤，对提供了镀敷催化剂或其前驱物的底层进行镀敷，而在底层上形成金属层。

主权项

一种积层体的制造方法，其包括：底层形成步骤，形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子的底层；催化剂提供步骤，使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液、与所述底层接触，而在所述底层上提供镀敷催化剂或其前驱物；以及镀敷步骤，对提供了所述镀敷催化剂或其前驱物的所述底层进行镀敷，而在所述底层上形成金属层。