[实用新型]一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台

摘要

本实用新型公开了一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，包括真空泵和平台，所述真空泵设置在平台的下方，其中，所述平台包括装配在一起的POM板和金属底板，所述POM板上设置有多个吸附孔，所述金属底板上设置有与所述吸附孔相对应的沟槽，所述沟槽位于吸附孔的下方。本实用新型提供的用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，通过在POM板和金属底板上分别设置吸附孔和沟槽，以便真空泵抽取平台内部气体后形成一个负压空间，从而加大吸附力，大幅降低了因平台吸力不足造成加工材料浪费过多、加工偏位以及产品不良等缺陷。此外，本实用新型通过缩小吸附孔孔径、增加吸附孔数量，更好地将待加工材料牢牢地吸附在真空平台上。

主权项

一种用于脉冲激光刻蚀的真空吸附平台，包括真空泵(1)和平台(2)，所述真空泵(1)设置在平台(2)的下方，其特征在于，所述平台(2)包括装配在一起的POM板(3)和金属底板(4)，所述POM板(3)上设置有多个吸附孔(5)，所述金属底板(4)上设置有与所述吸附孔(5)相对应的沟槽，所述沟槽位于吸附孔(5)的下方。