[实用新型]金属等离子体激元耦合发光增强硅基LED有效
申请号: | 201320700570.2 | 申请日: | 2013-11-05 |
公开(公告)号: | CN203631588U | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 刘春影;刘宏伟;杨广华;王真真;阚强;陈弘达 | 申请(专利权)人: | 天津工业大学 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/44;H01L33/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300160*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型属于微电子与光电子技术领域,涉及一种金属等离子体激元耦合发光增强硅基LED,采用标准CMOS工艺制成,包括集成在P型硅衬底上的P+N阱发光结及P电极和N电极,P+和N+均为尖端角度在75°至90°之间的楔形结构,在P+N阱发光结的上方,先覆盖有一层SiO2,再在SiO2表面制作有金属Ag光子晶体结构。本实用新型利用金属光子晶体的SPP泄露模式近场局域耦合增强器件发光效率,提高了硅基CMOS器件发光强度,且器件发光面积集中,具有较高的光功率密度,有利于器件光电集成。 | ||
搜索关键词: | 金属 等离子体 耦合 发光 增强 led | ||
【主权项】:
一种金属等离子体激元耦合发光增强硅基LED,采用标准CMOS工艺制成,包括集成在P型硅衬底上的P+N阱发光结及P电极和N电极,其特征在于,P+和N+均为尖端角度在75°至90°之间的楔形结构,在P+N阱发光结的上方,先覆盖有一层SiO2,再在SiO2表面制作有金属Ag光子晶体结构。
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