[实用新型]一种基于N型注入层的IGBT芯片有效

专利信息
申请号: 201320678868.8 申请日: 2013-10-30
公开(公告)号: CN203562430U 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 刘江;包海龙;张宇;刘隽;车家杰;赵哿;高明超;金锐 申请(专利权)人: 国家电网公司;国网上海市电力公司;国网智能电网研究院
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/06
代理公司: 北京安博达知识产权代理有限公司 11271 代理人: 徐国文
地址: 100031 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型涉及半导体器件技术,具体涉及一种基于N型注入层的IGBT芯片。IGBT芯片包括有源区、终端区和栅极区,在所述有源区和所述终端区均设有N型注入层;本实用新型中在IGBT设计时引入N型注入层,优化了终端区的设计,降低了终端区的尺寸。同时降低了有源区的饱和电压,提高了芯片的电流能力。本实用新型在不影响IGBT芯片其他性能的前提下,通过引入N型注入层,优化IGBT芯片各功能区域的比例,提高了IGBT芯片的电流能力。
搜索关键词: 一种 基于 注入 igbt 芯片
【主权项】:
一种基于N型注入层的IGBT芯片,所述IGBT芯片包括有源区、终端区和栅极区,其特征在于,在所述有源区和所述终端区均设有N型注入层。
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