[实用新型]一种LED芯片有效
申请号: | 201320649857.7 | 申请日: | 2013-10-22 |
公开(公告)号: | CN203617332U | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 张戈 | 申请(专利权)人: | 惠州比亚迪实业有限公司 |
主分类号: | H01L33/38 | 分类号: | H01L33/38;H01L33/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 516083*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种LED芯片,其中该LED芯片包括:衬底;缓冲层;N型半导体层;多量子阱,该多量子阱的面积小于N型半导体层的面积,以在N型半导体层上形成N电极安装区;电子阻挡层;P型半导体层,其具有线形开口,线形开口的底部与电子阻挡层接触;N电极,N电极形成在N电极安装区上;P电极,该P电极包括:P电极线部,填充线形开口的底部的P电极线部、位于P型半导体层之上并且位于线形开口上边缘的一端的P电极端部和连接P电极端部和P电极线部的一端的P电极连接部;以及隔离层,隔离层位于P电极端部与P型半导体层之间,隔离层的形状与P电极端部的形状相匹配。本实用新型的LED芯片具有驱动电压低、发光亮度高等优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 led 芯片 | ||
【主权项】:
一种LED芯片,其特征在于,包括:衬底;形成在衬底之上的缓冲层,所述缓冲层包括成核层和形成在成核层上的本征层;N型半导体层,所述N型半导体层位于所述缓冲层之上;多量子阱,所述多量子阱位于所述N型半导体层之上,所述多量子阱的面积小于所述N型半导体层的面积,以在所述N型半导体层上形成N电极安装区;电子阻挡层,所述电子阻挡层位于所述多量子阱之上;P型半导体层,所述P型半导体层位于所述电子阻挡层之上,所述P型半导体层具有线形开口,所述线形开口的底部与所述电子阻挡层接触;N电极,所述N电极形成在所述N电极安装区上,;P电极,所述P电极包括:P电极线部,所述P电极线部填充所述线形开口的底部;P电极端部,所述P电极端部位于所述P型半导体层之上并且位于所述线形开口上边缘的一端;和P电极连接部,所述P电极连接部连接所述P电极端部和所述P电极线部的一端;以及隔离层,所述隔离层位于所述P电极端部与所述P型半导体层之间,所述隔离层的形状与所述P电极端部的形状相匹配。
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