[实用新型]一种偏振立体成像装置及偏振片热保护装置有效
| 申请号： | 201320285328.3 | 申请日： | 2013-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN203275782U | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 马士超 | 申请（专利权）人： | 雷欧尼斯（北京）信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 郭智 |
| 地址： | 100190 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种偏振立体成像装置及偏振片热保护装置，所述装置包括：一基材，为由可透光的材料构成；多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形，位于所述基材上。优选的，所述基材包括：玻璃、合成树脂、聚乙稀薄膜等；所述玻璃包括：光学玻璃。所述偏振片热保护装置片包括上述偏振立体成像装置和偏振片，其中，所述偏振片位于所述偏振立体成像装置中的基材一侧，或者，所述偏振片位于所述偏振立体成像装置中的多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形一侧。本实用新型图像色彩还原正确，不存在偏色；成像均匀，图像在任意位置的清晰度均保持一致；漏光率低，成像质量好，立体图像无鬼影；耐高温，做成的偏振片可耐120度以上的高温，远超过普通偏振片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 偏振 立体 成像 装置 保护装置 | ||
【主权项】：
一种偏振立体成像装置，其特征在于，所述偏振立体成像装置包括：一基材，为由可透光的材料构成；多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形，位于所述基材上。
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