[实用新型]一种偏振立体成像装置及偏振片热保护装置有效
| 申请号： | 201320285328.3 | 申请日： | 2013-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN203275782U | 公开（公告）日： | 2013-11-06 |
| 发明（设计）人： | 马士超 | 申请（专利权）人： | 雷欧尼斯（北京）信息技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/22 | 分类号： | G02B27/22;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 郭智 |
| 地址： | 100190 北京市海淀区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 偏振 立体 成像 装置 保护装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种偏振立体成像装置，其特征在于，所述偏振立体成像装置包括：
一基材，为由可透光的材料构成；
多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形，位于所述基材上。
2.如权利要求1所述偏振立体成像装置，其特征在于，
所述基材包括：玻璃、合成树脂、聚乙稀薄膜；所述玻璃包括：光学玻璃。
3.如权利要求1所述偏振立体成像装置，其特征在于，
所述纳米材料单元的横截面形状包括：半圆形、长方形、正方形、三角形、梯型。
4.如权利要求1所述偏振立体成像装置，其特征在于，
所述多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形，通过采用纳米压印技术、或电子束直写曝光技术、或全息光刻技术、或X射线光刻技术，从而位于所述基材上。
5.如权利要求1所述偏振立体成像装置，其特征在于，
所述多个纳米材料单元以纳米级的间隔组合成所述矩阵或所述线形；所述间隔的取值为50nm至700nm之间。
6.一种偏振片热保护装置，其特征在于，所述偏振片热保护装置包括权利要求1-5任一项所述偏振立体成像装置和偏振片，其中，所述偏振片位于所述偏振立体成像装置中的基材一侧。
7.一种偏振片热保护装置，其特征在于，所述偏振片热保护装置包括权利要求1-5任一项所述偏振立体成像装置和偏振片，其中，所述偏振片位于所述偏振立体成像装置中的多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形一侧。
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