[实用新型]一种偏振立体成像装置及偏振片热保护装置有效

专利信息
申请号: 201320285328.3 申请日: 2013-05-23
公开(公告)号: CN203275782U 公开(公告)日: 2013-11-06
发明(设计)人: 马士超 申请(专利权)人: 雷欧尼斯(北京)信息技术有限公司
主分类号: G02B27/22 分类号: G02B27/22;G02B5/30
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 郭智
地址: 100190 北京市海淀区*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 偏振 立体 成像 装置 保护装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及偏振技术,尤其涉及一种偏振立体成像装置及偏振片热保护装置。

背景技术

如图1所示,为现有技术一偏振立体成像的原理示意图,其中,11为立体图像序列;12为偏振片;13为偏振调制器;14为经过偏振编码的立体图像;15为银幕;16为偏振立体眼镜。

如图2所示,为现有技术二偏振立体成像的原理示意图,其中,21为左眼图像序列;22为偏振片;23为偏振调制器(可无此设备);24为经过偏振编码的左眼图像;25为银幕;26为偏振立体眼镜;21’为右眼图像序列;22’为偏振片;23’为偏振调制器(可无此设备);24’为经过偏振编码的右眼图像。

从投影机,放映机等图像输出设备输出立体图像序列,经过偏振片后,组成图像的光变成单一偏振光,单一偏振光再经过偏振调制器调制编码,编码成以下几种立体格式中的一种:左眼图像变成左旋偏振光,右眼图像变成右旋偏振光(圆偏振技术);左眼图像变成右旋偏振光,右眼图像变成左旋偏振光(圆偏振技术);左眼图像变成S偏振光,右眼图像变成P偏振光(线偏振技术);左眼图像变成P偏振光,右眼图像变成S偏振光(线偏振技术)。

观众通过佩戴与之对应的偏振立体眼镜,就可以使左眼看到左眼图像,右眼看到右眼图像,从而在大脑中合成立体图像。

然而,现有技术偏振立体成像存在如下的缺点:由于现有的偏振立体成像中使用的偏振片是使用普通采用聚乙稀醇拉伸成0.5mm的薄膜,经用硫酸铜溶液染色而成,再用两片玻璃把偏振膜胶合在中间,形成偏振片。它的缺陷是:耗料多、制作时间长、工艺复杂、染色不均、透过率不匀、起偏角度不准、污染严重。直接造成现有的偏振立体成像的效果存在以下缺点:成像偏色,左右眼看到的图像色彩不一致,存在色差;成像不均匀,左右眼看到的图像在不同的部位清晰度不一致;成像漏光,左右眼图像不能正确隔离,左眼能看到很暗的右眼图像,右眼能看到很暗的左眼图像。造成立体图像带鬼影;由于制作偏振片的材料会吸收光,造成自身温度上升,而材料本身不能耐高温,一旦过热(超过50度就会损坏),所以需要加装散热风扇或远离投影机光源。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种偏振立体成像装置及偏振片热保护装置,以提高偏振立体成像的质量。

一方面,本实用新型实施例提供了一种偏振立体成像装置,所述偏振立体成像装置包括:一基材,为由可透光的材料构成;多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形,位于所述基材上。

优选的,在本实用新型一实施例中,所述基材包括:玻璃、合成树脂、聚乙稀薄膜;所述玻璃包括:光学玻璃。

优选的,在本实用新型一实施例中,所述纳米材料单元的横截面形状包括:半圆形、长方形、正方形、三角形、梯型。

优选的,在本实用新型一实施例中,所述多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形,通过采用纳米压印技术、或电子束直写曝光技术、或全息光刻技术、或X射线光刻技术,从而位于所述基材上。

优选的,在本实用新型一实施例中,所述多个纳米材料单元以纳米级的间隔组合成所述矩阵或所述线形;所述间隔的取值为50nm至700nm之间。

另一方面,本实用新型实施例提供了一种偏振片热保护装置,所述偏振片热保护装置包括上述偏振立体成像装置和偏振片,其中,所述偏振片位于所述偏振立体成像装置中的基材一侧。

再一方面,本实用新型实施例提供了一种偏振片热保护装置,所述偏振片热保护装置包括上述偏振立体成像装置和偏振片,其中,所述偏振片位于所述偏振立体成像装置中的多个纳米材料单元组合成的矩阵或线形一侧。

上述技术方案具有如下有益效果:图像色彩还原正确,不存在偏色;成像均匀,图像在任意位置的清晰度均保持一致;漏光率低,成像质量好,立体图像无鬼影;耐高温,本方法做成的偏振片可耐120度以上的高温,远超过普通偏振片。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术一偏振立体成像的原理示意图;

图2为现有技术二偏振立体成像的原理示意图;

图3为本实用新型实施例一种偏振立体成像装置结构示意图;

图4为本实用新型应用实例P偏振光透射率示意图;

图5为本实用新型应用实例S偏振光反射率示意图;

图6为本实用新型应用实例偏振立体成像装置示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于雷欧尼斯(北京)信息技术有限公司,未经雷欧尼斯(北京)信息技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320285328.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top