[实用新型]一种开关装置和刻蚀装置有效
申请号: | 201320239994.3 | 申请日: | 2013-05-06 |
公开(公告)号: | CN203260555U | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 孙文昌 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;C23F1/08 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 王黎延;张振伟 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种开关装置,包括:气缸、开关盒和开关盒上设置的基板入口;其特征在于,所述开关装置还包括:与所述开关盒底部相连的用于遮挡所述基板入口的推拉板、与所述推拉板相连的拉动杆、用于与所述推动杆和气缸相结合控制所述推拉板的开启和关闭的推动杆;所述开关装置还包括:位于所述开关盒底部的至少一个与报警装置相连的第一复位传感器,所述推拉板完全开启时压在所述第一复位传感器上。本实用新型还同时公开了一种刻蚀装置,本实用新型可解决因开关上的基板入口没有完全打开造成的基板表面被划伤的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 开关 装置 刻蚀 | ||
【主权项】:
一种开关装置,包括:气缸、开关盒和开关盒上设置的基板入口;其特征在于,所述开关装置还包括:与所述开关盒底部相连的用于遮挡所述基板入口的推拉板、与所述推拉板相连的拉动杆、用于与所述拉动杆和气缸相结合控制所述推拉板的开启和关闭的推动杆;所述开关装置还包括:位于所述开关盒底部的至少一个与报警装置相连的第一复位传感器,所述推拉板完全开启时压在所述第一复位传感器上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方光电科技有限公司,未经北京京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320239994.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:空间非均匀海杂波协方差矩阵的自适应估计方法
- 下一篇:激光切割机
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造