[实用新型]多有源区高效率光电子器件有效

专利信息
申请号: 201320211167.3 申请日: 2013-04-23
公开(公告)号: CN203351641U 公开(公告)日: 2013-12-18
发明(设计)人: 沈光地;马莉 申请(专利权)人: 沈光地;马莉
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 魏聿珠
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种多有源区高效率光电子器件,属于半导体光电子领域,其特征是在多有源区光电子器件中引入间接隧穿结构,通过间接隧穿结构将多个发光单元连接起来,增加了载流子的隧穿几率,成倍地提高了器件的量子效率。该器件结构可用于发光二极管、半导体激光器、多层结构带间探测器、超辐射发光二极管等。
搜索关键词: 有源 高效率 光电子 器件
【主权项】:
多有源区高效率光电子器件,有从下往上依次纵向层叠的衬底(500),缓冲层(400),N+重掺接触层(300),发光区(200),P+重掺接触层(100),其特征在于:在发光区(200)中引入间接隧穿结构(220)。
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