[实用新型]基于超级结的氮化镓HEMT器件有效
申请号: | 201320030306.2 | 申请日: | 2013-01-21 |
公开(公告)号: | CN203118954U | 公开(公告)日: | 2013-08-07 |
发明(设计)人: | 李海鸥;黄伟;吴笑峰;李思敏;首照宇;于宗光;李琦;胡仕刚;邓洪高 | 申请(专利权)人: | 桂林电子科技大学 |
主分类号: | H01L29/778 | 分类号: | H01L29/778;H01L29/06 |
代理公司: | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 | 代理人: | 陈跃琳 |
地址: | 541004 广*** | 国省代码: | 广西;45 |
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摘要: | 本实用新型公开一种基于超级结的氮化镓HEMT器件,其能够在低导通电阻的情况下提高器件击穿电压。所述基于超级结的氮化镓HEMT器件包括蓝宝石HEMT外延片、不掺杂AlN层、不掺杂GaN层、不掺杂AlGaN层、源极、栅极、漏极、栅漏极之间基于F离子处理技术形成的超级结区。所述方法采用干法ICP刻蚀出Mesa隔离结构,分别蒸发源漏极金属和栅极金属形成源、漏和栅极;采用基于F离子处理技术在栅极-漏极区域形成的超级结。本实用新型相对于常规的氮化镓HEMT器件具有导通电阻低、击穿电压高、开关反应速度快、功耗低和缓冲层漏电小的特点,可用于大功率电力电子开关、汽车电子、太阳能模块、电动车、雷达和制导等方面。 | ||
搜索关键词: | 基于 超级 氮化 hemt 器件 | ||
【主权项】:
基于超级结的氮化镓HEMT器件,其主要由蓝宝石衬底(1)、AlN层(2)、GaN层(3)、AlGaN层(4)、源极(5)、漏极(6)和栅极(7)组成;其中蓝宝石衬底(1)、AlN层(2)、GaN层(3)和AlGaN层(4)自下而上依次叠放,源极(5)、漏极(6)和栅极(7)则分布位于AlGaN层(4)的上方;其特征在于:所述漏极(6)和栅极(7)之间设有至少一个F离子处理形成的超级结区(8),该超级结区(8)从AlGaN层(4)的上表面一直嵌入延伸至AlGaN层(4)的下部或GaN层(3)的上部。
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