[发明专利]用于反射式光刻技术的掩模版、制作方法及其使用方法

摘要

本发明公开了一种用于反射式光刻技术的掩模版、制作方法及其使用方法。该制作用于反射式光刻技术的掩模版的方法包括：提供衬底；在所述衬底上形成多层反射层；在所述多层反射层上形成保护层；在所述保护层中形成暴露所述多层反射层的一部分的开口图案；对所述多层反射层执行界面粗糙工艺，以使所述多层反射层的暴露部分形成为光吸收区域，且所述多层反射层的非暴露部分形成为光反射区域，其中界面粗糙工艺用于使相邻的反射层之间的界面变得粗糙；以及去除所述保护层。根据本发明的方法制作形成的用于反射式光刻技术的掩模版的光反射区域和光吸收区域之间没有高度差，因此光反射区域反射的光不会被光吸收区域吸收，进而可以避免产生阴影效应。

主权项

1.一种制作用于反射式光刻技术的掩模版的方法，其特征在于，所述方法包括：提供衬底；在所述衬底上形成多层反射层；在所述多层反射层上形成保护层；在所述保护层中形成暴露所述多层反射层的一部分的开口图案，所述开口图案与待形成的掩膜版上的反射图案互补；对所述多层反射层执行界面粗糙工艺，以使所述多层反射层的暴露部分形成为光吸收区域，且所述多层反射层的非暴露部分形成为光反射区域，其中界面粗糙工艺用于使相邻的反射层之间的界面变得粗糙，所述光吸收区域的反射率低至使得通过所述光吸收区域反射后的反射光的强度低于待曝光的光刻胶的曝光阈值，所述界面粗糙工艺包括电子束注入、离子注入以及激光热处理中的一种或多种；以及去除所述保护层。