[发明专利]一种CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310740302.8 申请日: 2013-12-27
公开(公告)号: CN103741108A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 马胜利;梁智涛 申请(专利权)人: 晨光真空技术(深圳)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 代理人: 李郑建
地址: 518111 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法,采用三对平面Cr靶作为相应Cr元素的来源,三对平面Cr靶均匀安装在离子源增强磁控溅射离子镀膜设备的内壁上,通过调整中频脉冲电源的电流控制上述三对平面Cr靶的溅射率;采用一个阳极层气体离子源,以提高气体的离化率和反应粒子的能量;采用高纯Ar作为靶材溅射气体;采用高纯N2作为反应气体,通过阳极层气体离子源后使其离化并与靶材溅射下来的Cr粒子结合,在样品表面沉积形成三层结构的Cr底层/CrNx基梯度过渡层/CrN外层。具有表面光滑致密,涂层的显微硬度为Hv800,膜基结合力达到80N,当摩擦副为Al2O3球时,CrNx基涂层的干摩擦系数为0.35,中性盐雾实验的耐蚀性超过672小时。
搜索关键词: 一种 crnx 成分 梯度 过渡 装饰 防护 涂层 制备 方法
【主权项】:
一种CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法,其特征在于,该方法采用三对平面Cr靶作为相应Cr元素的来源,三对平面Cr靶均匀安装在离子源增强磁控溅射离子镀膜设备的内壁上,通过调整中频脉冲电源的电流控制上述三对平面Cr靶的溅射率;采用一个阳极层气体离子源,以提高气体的离化率和反应粒子的能量;采用高纯Ar作为靶材溅射气体;采用高纯N2作为反应气体,通过阳极层气体离子源后使其离化并与靶材溅射下来的Cr粒子结合,在样品表面沉积形成三层结构的Cr底层/CrNx基梯度过渡层/CrN外层。
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