[发明专利]一种CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310740302.8 申请日: 2013-12-27
公开(公告)号: CN103741108A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 马胜利;梁智涛 申请(专利权)人: 晨光真空技术(深圳)有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/06
代理公司: 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 代理人: 李郑建
地址: 518111 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 crnx 成分 梯度 过渡 装饰 防护 涂层 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于涂层材料制备领域,具体涉及一种CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法。

背景技术

硬质涂层如TiN,TiC,CrN,TiCN,TiSiN等,一般具有高硬度、耐磨损和抗腐蚀等优异性能,在日用电子产品、卫浴产品、机械产品及汽车和航空零件等表面装饰防护领域正得到广泛应用,如手机、手表、手提电脑、水龙头、浴盆喷管、汽车和飞机的标准紧固件等。

近年来为了提高产品的竞争力,对表面装饰防护涂层的综合性能要求越来越高,然而,已有涂层制备技术难以同时兼顾高硬度、耐腐蚀、耐磨损和外观可赏性等要求。目前涂层制备技术多采用电弧离子镀或磁控溅射离子镀,其中,电弧离子镀具有沉积速率快、结合力高等优点,但电弧离子镀涂层中的液滴由于制备原理本身的限制,导致涂层结构较为疏松,表面光洁度差等。磁控溅射方法虽可获得光滑致密的表面状态,但该方法制备的涂层的结合力不高,沉积速率较慢,难以满足高品质涂层的性能要求。为了提高涂层的结合力或耐磨性,这些涂层制备技术中几乎都采用了打底层、过渡层或多层叠加设计,但仍不能满足涂层综合性能和外观装饰要求,如CrN是广泛使用的装饰防护涂层,已经在工业界应用十余年。然而,有关CrN涂层制备中的一些技术难题仍未能很好解决。如软基体和硬质涂层之间的性能过渡始终是CrN涂层进一步广泛应用的关键制约因素,表现为涂层因结合力和硬度不高,耐磨性能和抗划擦能力较差。通过增加涂层厚度可提高其硬度和耐磨性能,但涂层中的残余应力也会增加,导致涂层的结合力和耐蚀性能降低,同时涂层外观光洁度、色泽的均匀性和稳定性等也出现不同程度下降。目前无论采用单一结构的CrN涂层,两层结构的Cr底层/CrN涂层,还是三层结构的Cr底层/CrN过渡层/CrN外层,或Cr底层/TiN或TiC过渡层/CrN外层等设计,由于产品基体一般较软,按照上述涂层结构设计制备的高硬度的CrN涂层,其成分和性能与基体材料过渡仍显不够或不连续,表现为成分不均易导致涂层外观光洁度或色泽较差,而性能不均易使涂层在使用过程中早期脱落,或不耐磨损,或不耐腐蚀。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新的CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法,该方法制备的CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层具有稳定均匀的金属光泽,表面光滑致密,涂层的结合力和耐磨抗蚀等综合性能显著提高,有望满足工件表面装饰防护的更高要求。

为了实现上述任务,本发明采取如下的解决方案:

一种CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层的制备方法,其特征在于,该方法采用三对平面Cr靶作为相应Cr元素的来源,三对平面Cr靶均匀安装在离子源增强磁控溅射离子镀膜设备的内壁上,通过调整中频脉冲电源的电流控制上述三对平面Cr靶的溅射率;采用一个阳极层气体离子源,以提高气体的离化率和反应粒子的能量;采用高纯Ar作为靶材溅射气体;采用高纯N2作为反应气体,通过阳极层气体离子源后使其离化并与靶材溅射下来的Cr粒子结合,在样品表面沉积形成三层结构的Cr底层/CrNx基梯度过渡层/CrN外层。

本发明的方法所制备的CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层,是在完成底层Cr制备后,设计了一个具有成分连续过渡的CrNx基过渡层,使得CrNx基过渡层内N的成分一直在连续均匀变化,保证了CrN基过渡层的微观结构和使用性能的缓和梯度变化,直至制备CrN外层时才维持N的成分固定不变,以保证涂层的外观色泽均匀,该CrNx基成分梯度过渡的装饰防护涂层为三层结构形式:即Cr底层/CrNx基梯度过渡层/CrN外层。该方法比现有技术制备的单层、两层或三层结构的CrN涂层均有显著优点,例如,单一结构的CrN涂层与软基体结合不好,两层结构的Cr底层/CrN涂层性能过渡较突然,三层结构的Cr底层/TiN或TiC过渡层/CrN外层中,过渡层TiN或TiC与外层CrN毕竟不是一类成分的涂层,综合性能难以调控到与外层CrN涂层相匹配的状态,而传统的三层结构的Cr底层/CrN过渡层/CrN外层中,过渡层CrN的成分是固定不变的,或过渡层CrN厚度很薄,并且与外层CrN成分不同,这就很难保证涂层结构与性能的缓和过渡。

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