[发明专利]电感耦合型等离子体处理腔室及其抗腐蚀绝缘窗口及制造方法在审
| 申请号： | 201310688135.7 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN104715994A | 公开（公告）日： | 2015-06-17 |
| 发明（设计）人： | 张力;贺小明 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种等离子处理腔室及其抗腐蚀组件及制造方法，所述组件上利用烧结方法在其面对等离子体的一面涂覆有一层钇化物涂层。本发明尤其适用于电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口。本发明提供的电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口涂层组织致密稳定，无颗粒污染风险，并且造价低。并且，由于涂层厚度可控，与氧化铝基地的绝缘窗口热匹配性能好，因此不会发生热致开裂等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 电感 耦合 等离子体 处理 及其 腐蚀 绝缘 窗口 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种抗腐蚀的电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口，其中，所述绝缘窗口上利用烧结方法在其面对等离子体的一面涂覆有一层钇化物涂层。
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