[发明专利]电感耦合型等离子体处理腔室及其抗腐蚀绝缘窗口及制造方法在审
| 申请号: | 201310688135.7 | 申请日: | 2013-12-13 |
| 公开(公告)号: | CN104715994A | 公开(公告)日: | 2015-06-17 |
| 发明(设计)人: | 张力;贺小明 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 王洁 |
| 地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电感 耦合 等离子体 处理 及其 腐蚀 绝缘 窗口 制造 方法 | ||
1.一种抗腐蚀的电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口,其中,所述绝缘窗口上利用烧结方法在其面对等离子体的一面涂覆有一层钇化物涂层。
2.根据权利要求1所述的绝缘窗口,其特征在于,所述绝缘窗口由石英或者氧化铝制成。
3.根据权利要求1所述的绝缘窗口,其特征在于,所述钇化物包括氧化钇和氟化钇。
4.根据权利要求1所述的绝缘窗口,其特征在于,所述烧结方法包括热压烧结、低压烧结或者无压烧结。
5.根据权利要求4所述的绝缘窗口,其特征在于,所述热压烧结是使用聚乙烯醇粘合剂、甘油增塑剂、无水酒精溶剂,混入氧化钇粉体,形成胶状物涂于绝缘窗口曝露于等离子体的表面,然后使用刮刀保证胶体厚度。
6.根据权利要求4所述的绝缘窗口,其特征在于,所述热压烧结是在炉内进行的,在炉中的工艺温度为1130~1170℃,保温时间1小时,升降温速率在100℃以内,压力为10~12MPa。
7.一种电感耦合型等离子体处理腔室,其特征在于,所述电感耦合型等离子体处理腔室包括权利要求1至6任一项所述的绝缘窗口。
8.一种制造抗腐蚀的电感耦合型等离子体处理腔室的绝缘窗口的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
提供一绝缘窗口基体;
所述绝缘窗口基体上利用烧结方法在其面对等离子体的一面涂覆有一层钇化物涂层。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述烧结方法包括热压烧结、低压烧结或者无压烧结。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,所述热压烧结包括如下步骤:使用聚乙烯醇粘合剂、甘油增塑剂、无水酒精溶剂,混入氧化钇粉体,形成胶状物涂于绝缘窗口曝露于等离子体的表面,然后使用刮刀保证胶体厚度。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征在于,所述热压烧结是在炉内进行的,在炉中的工艺温度为1130~1170℃,保温时间1小时,升降温速率在100℃以内,压力为10~12MPa。
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