[发明专利]一种用于半导体晶片切割的胶黏剂有效

专利信息
申请号: 201310672409.3 申请日: 2013-12-07
公开(公告)号: CN103709979A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 韦祖睦;苏光临;陈韬 申请(专利权)人: 南宁珀源化工有限公司
主分类号: C09J163/00 分类号: C09J163/00;C09J11/08;C09J11/06
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 刘冬梅;罗娟
地址: 530600 广西壮族*** 国省代码: 广西;45
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摘要: 发明提供了一种用于半导体晶片切割的胶黏剂,所述胶黏剂包括树脂组分和固化剂组分,所述树脂组分包含环氧树脂、邻苯二甲酸二缩水甘油醚、活性稀释剂等;所述固化剂组分包括环氧树脂改性间苯二甲胺预聚物、聚硫醇以及触变剂等成分。本发明所述的胶黏剂具有易脱胶、硬度较高和良好韧性等特征,适合于更薄晶片的切割,同时减少掉片、亮边,提高优品率。
搜索关键词: 一种 用于 半导体 晶片 切割 胶黏剂
【主权项】:
一种用于半导体晶片切割的胶黏剂,其特征在于,所述胶黏剂包括树脂组分和固化剂组分,其中固化剂组分主要由以下重量组分的原料制成:环氧树脂改性间苯二甲胺预聚物5‑20、聚硫醇或硫醇胺25‑40、石英粉15‑30、沉淀硫酸钡20‑35、蓝色粉0.1‑2和触变剂0.1‑2;树脂组分主要由以下重量组分的原料制成:环氧树脂30‑50、邻苯二甲酸二缩水甘油醚5‑20、活性稀释剂1‑5、颜料1‑10、填料35‑45、偶联剂0.1‑2和触变剂0.1‑5。
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