[发明专利]一种离子注入机宽束均匀性调节装置有效
| 申请号： | 201310605657.6 | 申请日： | 2013-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN103681191A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 王迪平;罗宏洋;钟新华;易文杰 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/04;H01J37/09 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强;李发军 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种离子注入机宽束均匀性调节装置。为了解决宽束均匀性难以控制的问题，所述宽束均匀性调节装置包括多灯丝离子源、多缝引出电极板、垂直质量分析器、分析光栏、挡束光拦、基板和固定法拉第阵列；所述多缝引出电极板将等离子体引出并送入垂直质量分析器内，所述垂直质量分析器将离子体分选后送入分析光栏中，该分析光栏具有多条分析缝，在分析光栏的出口处设有挡束光拦,所述固定法拉第阵列使宽带离子束全部进入固定法拉第阵列的法拉第本内；水平往复移动的所述基板位于所述挡束光拦与固定法拉第阵列之间。本发明的光路结构相对简单，宽束均匀性调节操作简便，可靠性高的用于低温多晶硅OLED器件生产线。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 注入 机宽束 均匀 调节 装置 | ||
【主权项】：
一种离子注入机宽束均匀性调节装置，其特征是，包括多灯丝离子源（1）、多缝引出电极板（2）、垂直质量分析器（3）、分析光栏（4）、挡束光拦（5）、基板（8）和固定法拉第阵列（6）；所述多缝引出电极板（2）位于多灯丝离子源（1）与垂直质量分析器（3）之间，该多缝引出电极板（2）将多灯丝离子源（1）在离子源腔体内产生的等离子体引出并送入垂直质量分析器（3）内，所述垂直质量分析器（3）将离子体分选后以宽带离子束（10）的形式送入用于调节宽带离子束（10）高度的分析光栏（4）中，该分析光栏（4）具有多条分析缝，在分析光栏（4）的出口处设有调节宽带离子束（10）均匀性的挡束光拦（5）,所述固定法拉第阵列（6）位于挡束光拦（5）的出口处，该固定法拉第阵列（6）将测量到的宽带离子束（10）各部分束流汇聚成束剖面，使宽带离子束（10）全部进入固定法拉第阵列（6）的法拉第本内；水平往复移动的所述基板（8）位于所述挡束光拦（5）与固定法拉第阵列（6）之间。
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