[发明专利]一种离子注入机宽束均匀性调节装置有效
申请号: | 201310605657.6 | 申请日: | 2013-11-26 |
公开(公告)号: | CN103681191A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 王迪平;罗宏洋;钟新华;易文杰 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/04;H01J37/09 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强;李发军 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 离子 注入 机宽束 均匀 调节 装置 | ||
1. 一种离子注入机宽束均匀性调节装置,其特征是,包括多灯丝离子源(1)、多缝引出电极板(2)、垂直质量分析器(3)、分析光栏(4)、挡束光拦(5)、基板(8)和固定法拉第阵列(6);所述多缝引出电极板(2)位于多灯丝离子源(1)与垂直质量分析器(3)之间,该多缝引出电极板(2)将多灯丝离子源(1)在离子源腔体内产生的等离子体引出并送入垂直质量分析器(3)内,所述垂直质量分析器(3)将离子体分选后以宽带离子束(10)的形式送入用于调节宽带离子束(10)高度的分析光栏(4)中,该分析光栏(4)具有多条分析缝,在分析光栏(4)的出口处设有调节宽带离子束(10)均匀性的挡束光拦(5),所述固定法拉第阵列(6)位于挡束光拦(5)的出口处,该固定法拉第阵列(6)将测量到的宽带离子束(10)各部分束流汇聚成束剖面,使宽带离子束(10)全部进入固定法拉第阵列(6)的法拉第本内;水平往复移动的所述基板(8)位于所述挡束光拦(5)与固定法拉第阵列(6)之间。
2. 根据权利要求1所述离子注入机宽束均匀性调节装置,其特征是,所述垂直质量分析器(3)内设有多条宽带离子束(10)通道,相邻两条宽带离子束(10)通道之间装有非磁性碳制成的导电板(9),该导电板(9)电气接地。
3. 根据权利要求1所述离子注入机宽束均匀性调节装置,其特征是,还包括一均匀性控制器(7);所述均匀性控制器(7)与调整所述分析光栏(4)的分析缝缝宽的电机相连;所述挡束光拦(5)包括多块挡板,相邻两块挡板之间具有间隙,所述均匀性控制器(7)与驱动所述挡板转动的电机相连。
4. 根据权利要求1所述离子注入机宽束均匀性调节装置,其特征是,所述垂直质量分析器(3)为偏转角为70°~90°的磁分析器。
5. 根据权利要求1所述离子注入机宽束均匀性调节装置,其特征是,所述多缝引出电极板(2)的引出缝位置与所述多灯丝离子源(1)对应。
6. 根据权利要求3所述离子注入机宽束均匀性调节装置,其特征是,所述均匀性控制器(7)与控制多灯丝离子源(1)灯丝电流大小的控制部件相连。
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