[发明专利]常压CVD薄膜连续生长炉

摘要

发明提供一种常压CVD薄膜连续生长炉，包括工作腔体、多段加热器、冷却器、输送机构、气柜、气体弥散腔、机架；其中工作腔体固定在机架上，前后端设有开口；工作腔体中前部外表面安装多段加热器，中后部外表面安装冷却器；输送机构位于工作腔体底部并从两端开口沿轴向贯穿整个腔体；气体弥散腔安装在腔体内前部加热段，为一个封闭壳体，其顶部设有进气管，底面上均匀分布若干小通孔；所述工作腔体两端及加热段与冷却段之间设有风帘盒，工作腔体两端还设有排气管，所述风帘盒与工作腔体连接，为表面分布有若干小通孔的密闭壳体；气柜上设有流量计，通过管路与气体弥散腔及风帘盒分别连接；其优点在于结构简单、效能高、产量大且次品率。

主权项

一种常压CVD薄膜连续生长炉，其特征在于：包括工作腔体、多段加热器、冷却器、输送机构、气柜、气体弥散腔、机架；其中工作腔体固定在机架上，前后端设有开口；工作腔体中前部外表面安装多段加热器，中后部外表面安装冷却器；输送机构位于工作腔体底部并从两端开口沿轴向贯穿整个腔体；气体弥散腔安装在腔体内前部加热段，为一个封闭壳体，其顶部设有进气管，底面上均匀分布若干小通孔；所述工作腔体两端及加热段与冷却段之间设有风帘盒，工作腔体两端还设有排气管，所述风帘盒与工作腔体连接，为表面分布有若干小通孔的密闭壳体；气柜上设有流量计，通过管路与气体弥散腔及风帘盒分别连接。