[发明专利]离子注入装置、射束平行化装置及离子注入方法有效
| 申请号： | 201310571727.0 | 申请日： | 2013-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN103811256A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 八木田贵典;椛泽光昭;佐佐木玄 | 申请（专利权）人： | 斯伊恩股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/248;H01J37/30 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 徐殿军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够广泛使用的离子注入装置、射束平行化装置及离子注入方法。本发明的离子注入装置（700）具备射束平行化部（704）及第3电源部（726），其中，射束平行化部（704）具备加速透镜（706）及沿离子束输送方向与加速透镜（706）相邻配置的减速透镜（708），第3电源部（726）在多个能量设定中的任一设定下使射束平行化部（704）动作。多个能量设定包括适合低能量离子束的输送的第1能量设定及适合高能量离子束的输送的第2能量设定。第3电源部（726）被构成为，在第2能量设定下至少在加速透镜（706）上产生电位差，在第1能量设定下至少在减速透镜（708）上产生电位差。减速透镜（708）的曲线比加速透镜（706）的曲线更平缓。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 平行 化装 方法 | ||
【主权项】：
一种离子注入装置，其特征在于，具备：射束平行化部，其具备加速透镜及沿离子束输送方向与所述加速透镜相邻配置的减速透镜；及电源部，其在多个能量设定中的任一设定下使所述射束平行化部动作，所述多个能量设定包括适合低能量离子束的输送的第1能量设定及适合高能量离子束的输送的第2能量设定，所述电源部被构成为，在所述第2能量设定下至少在所述加速透镜上产生电位差，在所述第1能量设定下至少在所述减速透镜上产生电位差，所述减速透镜的曲线比所述加速透镜的曲线平缓。
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