[发明专利]平面双闪耀光栅的制作方法

摘要

本发明涉及一种平面双闪耀光栅的制作方法，其步骤为：a、在对平面玻璃基底进行除尘清洁后先后在其表面分别镀上铬膜和铝膜；b、把刻刀安装在光栅刻划机上，同时将基底放置在工作平台上；c、启动电机进行预刻划，利用电子显微镜观察预刻划的槽型，根据槽型调节好刻刀的刀角倾度和后角高度获得理想槽型，固定好基底在其表面滴上硅油；d、固定好刻刀开始正式刻划，当刻好第一衍射角的光栅后停止电机，旋转选择第二把刻刀固定好位置后开始第二衍射角的光栅的刻划工作；e、完成刻划工作后取出光栅清洗残余的硅油，制得双闪耀光栅。本发明适用于普通光栅刻划机，所制光栅适用于宽波段、体积小、集成化的便携式光谱仪。

主权项

一种平面双闪耀光栅的制作方法，包括A闪耀区（4）和B闪耀区（5）光栅的刻划，其特征在于，具体步骤是：1）A闪耀区（4）光栅的刻划a、在清洁除尘后的平面玻璃基底（3）上先后镀上一层铬膜和一层铝膜；b、刻划机构的旋转圆盘（6）的竖直方向的刀桥（8）上安装两把刻刀，每把刻刀研磨的刀刃角度均与设计所需的刀刃角度一致；c、将平面玻璃基底（3）放置在以丝杠为牵引机构的横向分度工作平台上，启动电机进行预刻划，用电子显微镜观察预刻划的槽型，根据槽型调节刻刀的刀角倾度和后角高度获得所需槽型，然后固定好基底，并在其表面滴上硅油；d、工作平台带动光栅基底作进给量为一个光栅常数d的横向分度运动，刀桥带动第一刻刀（1）往复作竖直方向上的刻划运动，如此周而复始，完成A闪耀区（4）光栅的刻划；2）B闪耀区（5）光栅的刻划a、A闪耀区（4）光栅的刻划完成后，停止电机，旋转装有两把刻刀的旋转圆盘（6），把第二刻刀（2）旋转到第二刻刀（1）的位置，并固定好；b、启动电机，工作平台继续带动光栅基底作进给量为一个光栅常数d的横向分度运动，刀桥（8）带动第二刻刀（2）往复作竖直方向上的刻划运动，直到完成B闪耀区（5）光栅的刻划；3）完成A闪耀区（4）和B闪耀区（5）光栅的刻划后取出光栅清洗残余的硅油，制得双闪耀光栅。