[发明专利]均匀改变等离子体分布的等离子处理装置及其控制方法有效
| 申请号： | 201310536719.2 | 申请日： | 2013-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN103560068A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 梁洁;李俊良;万磊 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/24;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，该装置包含：处理室，用于容纳处理气体；绝缘窗，其设置于所述处理室顶部；线圈，其设置在所述处理室外部，并对应设置于绝缘窗处；该装置还包含：导板条，其靠近线圈设置；该导板条中产生与线圈的电流方向相反的感生电流；机械驱动装置，其通过连杆机械连接导板条，带动导板条远离或靠近线圈运动；导板条与线圈之间距离越近感生电流越强，导板条与线圈之间距离越远感生电流越弱，从而控制处理室内的电磁场分布。本发明采用机械驱动装置控制导板条与线圈之间的距离，以机械方式实现对等离子处理室内电磁场分布连续改变控制，设备结构简单，操作便捷，成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 均匀 改变 等离子体 分布 等离子 处理 装置 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，该装置包含：处理室，用于容纳处理气体；绝缘窗，其设置于所述处理室顶部；线圈，其设置在所述处理室外部，并对应设置于所述绝缘窗处；其特征在于，所述装置还包含：导板条，其靠近所述的线圈设置；该导板条中产生与所述线圈的电流方向相反的感生电流；机械驱动装置，其通过连杆机械连接所述的导板条，带动所述导板条远离或靠近所述线圈运动；所述导板条与线圈之间距离越近感生电流越强，导板条与线圈之间距离越远感生电流越弱，从而控制处理室内的电磁场分布。
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