[发明专利]均匀改变等离子体分布的等离子处理装置及其控制方法

权利要求书

1.一种均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，该装置包含：

处理室，用于容纳处理气体；

绝缘窗，其设置于所述处理室顶部；

线圈，其设置在所述处理室外部，并对应设置于所述绝缘窗处；

其特征在于，所述装置还包含：

导板条，其靠近所述的线圈设置；该导板条中产生与所述线圈的电流方向相反的感生电流；

机械驱动装置，其通过连杆机械连接所述的导板条，带动所述导板条远离或靠近所述线圈运动；

所述导板条与线圈之间距离越近感生电流越强，导板条与线圈之间距离越远感生电流越弱，从而控制处理室内的电磁场分布。

2.如权利要求1所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，其特征在于，所述导板条采用易变形结构，其边缘固定于所述等离子处理装置的侧壁，中央部分连接机械驱动装置；

所述机械驱动装置带动导板条中央部分沿垂直于线圈平面的轨迹远离或靠近线圈运动，同时带动导板条中央部分至其边缘之间的板面变形运动，使导板条与线圈之间的距离由中央至边缘连续变化。

3.如权利要求2所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，其特征在于，所述导板条采用同心的环形褶皱结构。

4.如权利要求1所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，其特征在于，所述导板条面积小于所述线圈平面的面积，所述机械驱动装置带动导板条沿垂直于线圈平面的轨迹远离或靠近线圈运动，通过运动过程中所述导板条中感生电流的变化控制电磁场分布。

5.如权利要求1所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，其特征在于，该装置包含若干导板条，各个导板条分别与所述线圈的各个部分对应设置；

该装置还包含若干机械驱动装置，各个机械驱动装置与各个所述导板条一一对应连接，每个机械驱动装置分别控制其所对应连接的导板条沿垂直于线圈平面的轨迹远离或靠近线圈运动，通过各个导板条中感生电流的变化控制电磁场分布。

6.如权利要求1至4中任意一项权利要求所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，其特征在于，所述导板条与线圈同心设置。

7.如权利要求1至5中任意一项权利要求所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，其特征在于，所述导板条与线圈平行设置。

8.如权利要求1至5中任意一项权利要求所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置，其特征在于，所述导板条与线圈之间间隔且不接触设置，所述导板条与线圈之间保持绝缘距离。

9.一种如权利要求1至5中任意一项权利要求所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置的电磁场分布控制方法，其特征在于，该方法包含：

机械驱动装置控制位于线圈中间部分的导板条远离线圈，导板条相对边缘部分上电磁场耦合较弱，中间部分的导板条功率向下传递效率高于边缘部分，所以导板条中间部分所对应处理室内的等离子密度高；

机械驱动装置控制位于线圈中间部分的导板条靠近线圈，导板条相对边缘部分上电磁场耦合较强，中间部分的导板条功率向下传递效率低于边缘部分，所以导板条中间部分所对应处理室内的等离子密度低。

10.如权利要求9所述的均匀改变等离子体分布的等离子处理装置的电磁场分布控制方法，其特征在于，均匀控制所述机械驱动装置，并由机械驱动装置带动导板条均匀运动。