[发明专利]一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统有效
| 申请号： | 201310524991.9 | 申请日： | 2013-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN103545716A | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 王敏;王警卫;蔡万绍;刘兴胜 | 申请（专利权）人： | 西安炬光科技有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/40 | 分类号： | H01S5/40;H01S5/068;H01S5/06;G02B27/28;G02B7/182;B23K26/70 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710119 陕西省西安市高*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，该系统能够完全消除激光加工中反馈光沿入射光路反射回激光器中，降低反馈光对半导体激光器输出性能以及寿命的影响。该高功率半导体激光加工光源系统的所有巴条偏振态一致，均为TM（或TE）；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TM（或TE）光进行透射，对TE（或TM）光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反馈 功率 半导体 激光 加工 光源 系统 | ||
【主权项】：
一种防光反馈的高功率半导体激光加工光源系统，包括半导体激光器叠阵，其特征在于：所述半导体激光器叠阵的所有巴条偏振态一致，均发出TE光；在半导体激光器叠阵出光方向设置有偏振合束片，所述偏振合束片对TE光进行透射，对TM光进行反射；在偏振合束片后设置四分之一波片或者两个八分之一波片，用以将光的偏振态旋转45°；在反方向经偏振合束片反射形成的光路上设置有吸光板。
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