[发明专利]一种高精度掩模板的制作方法在审
| 申请号： | 201310523657.1 | 申请日： | 2013-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN103556113A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 魏志凌;高小平;潘世珎;刘学明 | 申请（专利权）人： | 昆山允升吉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23F1/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高精度掩模板的制作方法，包括通过蚀刻工艺蚀刻金属基板制作掩模板的蚀刻步骤，金属基板包括蚀刻面和非蚀刻面，蚀刻面包括蚀刻区域和非蚀刻区域，非蚀刻区域包括非蚀刻区域一和非蚀刻区域二，蚀刻区域是由其外侧非蚀刻区域一和其内侧非蚀刻区域二围成的封闭区域；在蚀刻步骤中，非蚀刻区域和非蚀刻面设有保护膜，蚀刻区域的金属与蚀刻液反应形成通孔，通孔使非蚀刻区域二与非蚀刻区域一脱离，在蚀刻区域及其内侧的非蚀刻区域二处形成蒸镀孔。通过本发明所提供的方法制作的掩模板，在制作大尺寸蒸镀孔的掩模板时，将制作大尺寸的蒸镀孔转化为制作小尺寸的通孔，从而提高大尺寸蒸镀孔掩模板的精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 模板 制作方法 | ||
【主权项】：
一种高精度掩模板的制作方法，包括通过蚀刻工艺蚀刻金属基板制作掩模板的蚀刻步骤，其特征在于：所述金属基板包括蚀刻面和非蚀刻面，所述蚀刻面包括蚀刻区域和非蚀刻区域，所述非蚀刻区域包括非蚀刻区域一和非蚀刻区域二，所述蚀刻区域是由其外侧非蚀刻区域一和其内侧非蚀刻区域二围成的封闭区域；在所述蚀刻步骤中，所述非蚀刻区域和所述非蚀刻面设有保护膜，所述蚀刻区域的金属与蚀刻液反应形成通孔，所述通孔使所述非蚀刻区域二与所述非蚀刻区域一脱离，在所述蚀刻区域及其内侧的非蚀刻区域二处形成蒸镀孔。
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