[发明专利]公斤级高纯碳化硅粉的制备方法有效

专利信息
申请号: 201310509896.1 申请日: 2013-10-25
公开(公告)号: CN103708463A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 何丽娟 申请(专利权)人: 北京华进创威电子有限公司
主分类号: C01B31/36 分类号: C01B31/36
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 代理人: 尹振启
地址: 100023 北京市大*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种公斤级高纯碳化硅粉的制备方法,步骤为,(1)将石墨坩埚镀碳膜;(2)将镀过碳膜的石墨坩埚镀碳化硅(3)将混合均匀后的硅粉、碳粉放入坩埚中,将坩埚置于发热管中,将发热管放入中频感应加热炉中,对系统抽气、升温、充入高纯氩气、氦气或氢气和氩气的混合气,加热至合成温度,保温一定时间后降温,即可得到公斤级高纯碳化硅粉。本发明方法能有效去除硅粉、碳粉中的大部分杂质元素,对于高纯半绝缘碳化硅单晶生长或是N型掺杂和P型掺杂的碳化硅单晶生长来说,可排除非有意掺杂杂质的干扰,有利于稳定晶型及电阻率和其他电学参数。
搜索关键词: 公斤 高纯 碳化硅 制备 方法
【主权项】:
公斤级高纯碳化硅粉的制备方法,其特征在于,该方法具体为:镀碳膜:将石墨坩埚放入CVD炉中,通入甲烷气体,在温度1000‑1200℃时,在石墨坩埚表面形成碳膜;镀碳化硅层:将硅粉、碳粉按摩尔比1:1‑1.5:1的比例混合均匀放入镀过碳膜的石墨坩埚内,置于中频感应加热炉中,在高纯氩气环境中,升温至1800‑2000℃,保持2‑10小时,然后降至室温,在石墨坩埚内壁形成一层致密的碳化硅层;混料:将硅粉、碳粉按摩尔比1:1混合均匀;合成:将混合均匀后的硅粉、碳粉放入镀过碳化硅层的石墨坩埚中,将石墨坩埚置于发热管中,将发热管放入中频感应加热炉中,对系统抽气,除去系统中的氮气和氧气,同时将温度升至800‑1100℃,然后充入高纯氩气、氦气或氢气与氩气的混合气,缓慢升温至合成温度1500‑1900℃,保温2‑24小时后降至室温,即可得到公斤级高纯碳化硅粉。
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